Quantum etch plasma simulation

量子蚀刻等离子体模拟

基本信息

  • 批准号:
    EP/F008961/1
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.94万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    英国
  • 项目类别:
    Research Grant
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    英国
  • 起止时间:
    2007 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The project will produce a prototype Quantum-Etch system: a plasma etching model based on accurate quantum models. This etching program will allow academic and industrial researchers to pre-test major design changes in etching systems. The consequence will be a major efficiency gain for the semiconductor industry in designing industrial etching chambers allowing for the most suitable designs to be quickly identified and moved on to lab testing. Project outputs will include a Requirements Analysis following customer interviews, Development Roadmap, Prototype Quantum-Etch system and a detailed Business Plan which will be used to raise further finance for development and marketing.
该项目将生产一个量子蚀刻系统的原型:一个基于精确量子模型的等离子蚀刻模型。这一蚀刻计划将允许学术和工业研究人员预先测试蚀刻系统中的主要设计变化。这将大大提高半导体行业在设计工业蚀刻室方面的效率,从而使最合适的设计能够被快速识别并转移到实验室测试。项目产出将包括客户访谈后的需求分析、开发路线图、Quantum-Etch原型系统和详细的业务计划,该计划将用于为开发和营销筹集更多资金。

项目成果

期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ExoMol line lists - VIII. A variationally computed line list for hot formaldehyde
ExoMol 系列列表 - VIII。
Using a vibrational averaging technique to understand the role of water dimers in atmospheric absorption
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Electron re-scattering from H 2 and CO 2 using R-matrix techniques
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  • DOI:
    10.1080/09500340601043405
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.3
  • 作者:
    Harvey A
  • 通讯作者:
    Harvey A
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知道了