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Anisotropic etching of silicon applied to microelectromechanical device processing and alternative processes for thin gate dielectrics
硅的各向异性蚀刻应用于微机电器件加工和薄栅极电介质的替代工艺
基本信息
- 批准号：121286-1997
- 负责人：
- 金额：$ 1.35万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Discovery Grants Program - Individual
- 财政年份：2000
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2000-01-01 至 2001-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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121286-2001 - 财政年份：2001
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121286-2001 - 财政年份：2004
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121286-2001 - 财政年份：2002
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$ 1.35万 - 项目类别：
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