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Anisotropic etching of silicon applied to microelectromechanical device processing and alternative processes for thin gate dielectrics

Anisotropic etching of silicon applied to microelectromechanical device processing and alternative processes for thin gate dielectrics
硅的各向异性蚀刻应用于微机电器件加工和薄栅极电介质的替代工艺
批准号：
121286-1997
负责人：
Landsberger, Leslie
金额：
$1.35万
依托单位：
Concordia University
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
财政年份：
2000
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2000-01-01 至 2001-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=172772
关键词：
Anisotropicetchingsiliconappliedmicroelectromechanical

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Wet anisotropic etching of silicon -- mechanisms, and application to single-crystal silicon nanostructures
  • 批准号：
    121286-2005
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2005
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
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