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Wet anisotropic etching of silicon -- mechanisms, and application to single-crystal silicon nanostructures
硅的湿法各向异性蚀刻——机理及其在单晶硅纳米结构中的应用
基本信息
- 批准号：121286-2005
- 负责人：
- 金额：$ 2.48万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Discovery Grants Program - Individual
- 财政年份：2005
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2005-01-01 至 2006-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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121286-2001 - 财政年份：2004
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