Fabrication of silicon-based microelectromechanical devices

硅基微机电器件的制造

基本信息

  • 批准号:
    121286-1995
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.9万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
  • 财政年份:
    1996
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    1996-01-01 至 1997-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

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项目成果

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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Landsberger, Leslie', 18)}}的其他基金

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  • 资助金额:
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  • 财政年份:
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  • 资助金额:
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  • 资助金额:
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  • 批准号:
    249760-2011
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
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  • 批准号:
    26249048
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 0.9万
  • 项目类别:
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  • 批准号:
    249760-2011
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 0.9万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
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  • 资助金额:
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  • 批准号:
    249760-2011
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 0.9万
  • 项目类别:
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用于纳米级微电子学和光子学的硅基材料结构的制造和工艺建模
  • 批准号:
    249760-2011
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 0.9万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Low temperature fabrication of silicon-based thin film transistors (TFTs) for flat panel displays - an entirely new approach
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    LP0777007
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    2008
  • 资助金额:
    $ 0.9万
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    Linkage Projects
{{ showInfoDetail.title }}

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知道了