Deep X-ray lithography processes for high resolution applications
适用于高分辨率应用的深度 X 射线光刻工艺
基本信息
- 批准号:327243-2006
- 负责人:
- 金额:$ 1.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Discovery Grants Program - Individual
- 财政年份:2008
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:2008-01-01 至 2009-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The 1959 quote of Richard P. Feynman, Nobel Prize laureate in physics, that "there's plenty of room at the bottom" today holds more than ever. Microsystems technologies have revolutionized the way we perceive and control the physical world, and the world market of $33 billion US for smallest units commercially available is anticipating an annual growth of 11% to 16% [NEXUS III market analysis]. Microsystems technologies focus on fabricating miniaturized components with feature sizes on the order of 1/100 of the diameter of a human hair. Systems such as read/write heads for hard discs, inkjet printhead nozzles or digital projection systems strongly support the economy. Other components drive technical and scientific progress by allowing for new systems and solutions in sensing and actuating, for instance by providing specialized filters for space missions or novel focusing optics for X-rays. Among the broad fabrication portfolio, X-ray lithography using synchrotron radiation provides particularly outstanding structure quality. This technology, however, hasn't been available in Canada so far. With the Canadian Light Source, the largest research endeavor in Canada in a generation, getting operational, this technology now gets accessible as SyLMAND, the Synchrotron Laboartory for Micro and Nano Devices, is being developed. A research program will ensure that SyLMAND not only brings X-ray lithography to Canada, but that cutting-edge research can be carried out, including process technology and related applications. This includes novel approaches in radio frequency microsystems which will help to improve wireless communications, as required in cell phones, satellite communications and wireless LANs.
1959年,诺贝尔物理学奖得主理查德·费曼(Richard P. Feynman)曾说过,“底部有足够的空间”,这句话在今天比以往任何时候都更有说服力。微系统技术已经彻底改变了我们感知和控制物理世界的方式,全球市场规模为330亿美元,商用最小单元预计年增长率为11%至16%。微系统技术专注于制造特征尺寸为人类头发直径1/100量级的小型化组件。诸如硬盘读/写头、喷墨打印头喷嘴或数字投影系统等系统有力地支持了经济。其他组件通过允许传感和驱动方面的新系统和解决方案来推动技术和科学进步,例如通过为太空任务提供专用滤波器或为X射线提供新型聚焦光学器件。在广泛的制造组合中,使用同步辐射的X射线光刻提供了特别出色的结构质量。然而,这项技术到目前为止还没有在加拿大推出。随着加拿大光源,加拿大一代人中最大的研究奋进,开始运作,这项技术现在可以作为SyLMAND,同步加速器实验室的微型和纳米器件,正在开发中。一项研究计划将确保SyLMAND不仅将X射线光刻技术带到加拿大,而且可以进行尖端研究,包括工艺技术和相关应用。这包括射频微系统中的新方法,这将有助于改善蜂窝电话、卫星通信和无线局域网中所需的无线通信。
项目成果
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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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