Porosity in Si, Ge and the Si(x)Ge(1-x) alloys induced by ion irradiation
Porosity in Si, Ge and the Si(x)Ge(1-x) alloys induced by ion irradiation
批准号:
DP120101264
负责人:
Prof Mark Ridgway
金额:
$22.91万
依托单位国家:
澳大利亚
项目类别:
Discovery Projects
财政年份:
2012
资助国家:
澳大利亚
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-01-01 至 2014-12-31
中文摘要
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英文摘要
Ion beam methods will be used to form porous layers in Si, Ge and their alloys with a range of technological applications. The distributions of pore size and shape will be characterised with laboratory and synchrotron-based analytical techniques including a 3D reconstruction of the irradiation-induced porous structure.
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依托单位:
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