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High-quality Si02 films on Si created by corona-discharge at low thermal budget

High-quality Si02 films on Si created by corona-discharge at low thermal budget
在低热预算下通过电晕放电在 Si 上形成高质量 SiO2 薄膜
批准号：
121286-1992
负责人：
Landsberger, Leslie
金额：
$1.24万
依托单位：
Concordia University
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
财政年份：
1993
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
1993-01-01 至 1994-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=56481
关键词：
qualitySi02filmsSicreated

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Wet anisotropic etching of silicon -- mechanisms, and application to single-crystal silicon nanostructures
  • 批准号：
    121286-2005
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2005
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
Microsystems fabrication involving anisotropic etching of silicon: fundamental and applied studies
  • 批准号：
    121286-2001
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.48万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    Landsberger, Leslie
  • 依托单位：
    Concordia University
国内基金
海外基金
利用侧壁氧化制备Si02中纳米SiGe合金的新方法
  • 批准号：
    69776009
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    11.0万元
  • 批准年份：
    1997
  • 负责人：
    张敬平
  • 依托单位：
    山东师范大学