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Plasmaätzanlage mit ICP-Anregung

Plasmaätzanlage mit ICP-Anregung
带 ICP 激励的等离子蚀刻系统
批准号:
189565089
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2010
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2009-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
“沃尔特·肖特基研究所(WSI)的成立和解散始于1980年,经过多年的努力,至今仍保持着良好的声誉。虽然他们在海滩上取得了巨大的成果,但在过去的几年里,他们对Ausfälle的改变并没有得到梅尔更多的支持,这使得Hersteller-Supports能够在Ausfall- und Rüstzeiten führt和Risiko des Totalausfalls birgt中获得支持。在纳米技术领域,我们已经有了20年的历史,阿尔滕博士为我们的科学研究和科学计划做了大量的工作--没有梅尔的技术和现代化的设备没有梅尔的知识。主要问题是由于侧部结构的不均匀性,使得在新的结构基础上进行的韦尔登计算具有现代化的结构和更好的结构(美国)。Temperaturcontrolle)umfassend gelöst. Zusätzlich soll durch die Beschaffung umfangreicher in situ-Diagnostik und die Cooperation mit Herrn Prof. Franz von der Hochschule München ein für unser Institut neues Forschungsgebiet nämlich die detaillierte Untersuchung von Plasmaprozessen eröffnet韦尔登.“
英文摘要
„Die Ätz- und Abscheideanlagen des Walter Schottky Instituts (WSI) wurden bei Institutsgründung Ende der 1980er Jahre erworben und durch sorgfältige Pflege und Wartung bis heute weitgehend einsatzbereit gehalten. Mit ihnen sind nach wie vor beachtliche Resultate möglich, jedoch nehmen alterungsbedingte Ausfälle in den letzten Jahren stark zu, was insbesondere aufgrund nicht mehr verfügbaren Hersteller-Supports zu teilweise inakzeptablen Ausfall- und Rüstzeiten führt und das Risiko des Totalausfalls birgt. Hinzu kommen konstruktionsbedingte Defizite, weshalb unsere über 20 Jahre alten Geräte für unsere aktuellen und geplanten Forschungsprojekte - vor allem im Bereich der Nanotechnologie - nicht mehr geeignet und im Vergleich zu modernen Anlagen nicht mehr konkurrenzfähig sind. Die Hauptprobleme wie unzureichende Homogenität der Ätztiefen, zu geringe Ätzraten bei unzureichender lateraler Strukturtreue sowie starke Unterätzung werden mit der geplanten Neubeschaffung aufgrund modernerer Konstruktion und besserer Ausstattung (u.a. Temperaturkontrolle) umfassend gelöst. Zusätzlich soll durch die Beschaffung umfangreicher in-situ-Diagnostik und die Kooperation mit Herrn Prof. Franz von der Hochschule München ein für unser Institut neues Forschungsgebiet nämlich die detaillierte Untersuchung von Plasmaprozessen eröffnet werden.“
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