课题基金 / 基金详情

Ionenätzanlage zur Herstellung von Schnittpräparaten für die Elektronenmikroskopie

Ionenätzanlage zur Herstellung von Schnittpräparaten für die Elektronenmikroskopie
用于制作电子显微镜切片的离子蚀刻系统
批准号:
246348303
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2013
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2012-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
电子显微镜中的碎片分析可以通过探针的铁谱获得信息。Daher muss eine adäquate Präparationsmethode gewählt韦尔登,die ein ungestörtes,also Artefakt freies Profile erstelt.对于Proben,die nicht über ein großes Flächensegment homogen sind,lässt sich努尔durch gezieltes Präparieren die gewünschte Profilstelle darstellen。大北只能通过一个不完整的轮廓来确定韦尔登。如果你能把韦尔登的材料结合起来,就能把镀金的材料结合起来。B。Unterscheedlicher Härte,Sprödsports und Elastizität,eine Präparation durch klassisches Zielschleifen und mehrstufiges Polieren,nicht anwendbar machen.“
英文摘要
Die analytische Fragestellungen in der Elektronenmikroskopie beziehen sich erfahrungsgemäß in gut der Hälfte der Fälle auf eine Informationsgewinnung aus dem Tiefenprofil der Probe. Daher muss eine adäquate Präparationsmethode gewählt werden, die ein ungestörtes, also Artefakt freies Profil erstellt. Für Proben, die nicht über ein großes Flächensegment homogen sind, lässt sich nur durch gezieltes Präparieren die gewünschte Profilstelle darstellen. Dabei kann nur durch Einsatz von lonenstrahl-Ätzen ein ungestörtes Profil erstellt werden. Dies gilt insbesondere dann, wenn Proben präpariert werden sollen, die durch ihre Kombination von Materialien sehr unterschiedlicher Natur, z. B. unterschiedlicher Härte, Sprödheit und Elastizität, eine Präparation durch klassisches Zielschleifen und mehrstufiges Polieren, nicht anwendbar machen.“
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1108/ssmt-10-2015-0031
发表时间: 2016-04
期刊: Soldering & Surface Mount Technology
影响因子: 2
作者: [Ming Xiao;Walid-Madhat Munief;Fengshun Wu;R. Lilischkis;Tobias Oberbillig;M. Saumer;W. Xia]
通讯作者: Ming Xiao;Walid-Madhat Munief;Fengshun Wu;R. Lilischkis;Tobias Oberbillig;M. Saumer;W. Xia
海外基金