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RF PLASMA DEPOSITED SURFACES

RF PLASMA DEPOSITED SURFACES
射频等离子体沉积表面
批准号:
6345027
负责人:
DAVID G CASTNER
金额:
$1.47万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
财政年份:
2000
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
2000-09-01 至 2001-08-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
射频等离子沉积表面提供了复杂表面的模型 并展示了在分析中遇到的许多问题 以生物系统为例,存在许多不同的 官能团和不同程度的交联度。大号 各种表面可以通过射频等离子体沉积,范围 从单体单元的小结构重排到严重的 重新编排。这些薄膜将被用来评估 SIMS用于探测交联度、SIMS和 用于定量评估一个官能团的多变量统计 在其他人面前,并优化衍生协议 之前在此实验室中开发的。
英文摘要
RF plasma-deposited surfaces provide a model of complex surfaces and exhibit many of the problems encountered in the analysis of biological systems, for example, the presence of many different functional groups and differing degrees of crosslinking. A large variety of surfaces can be produced via RF plasma deposition, ranging from little structural rearrangement of the monomer unit to severe rearrangement. The films will be used to assess the capability of SIMS to probe crosslinking degree, the ability of SIMS and multivariate statistics to assess quantitatively one functional group in the presence of others, and to optimize derivatization protocols previously developed in this lab.
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会议论文
MS Chemical Imager Instrument
  • 批准号:
    8730331
  • 项目类别:
  • 资助金额:
    $174.95万
  • 财政年份:
    2014
  • 负责人:
    DAVID G CASTNER
  • 依托单位:
Cluster Ion Sources for ToF-SIMS
  • 批准号:
    8246268
  • 项目类别:
  • 资助金额:
    $37.46万
  • 财政年份:
    2012
  • 负责人:
    DAVID G CASTNER
  • 依托单位:
Cluster Ion Source for ESCA Instrument
  • 批准号:
    7791458
  • 项目类别:
  • 资助金额:
    $11.5万
  • 财政年份:
    2010
  • 负责人:
    DAVID G CASTNER
  • 依托单位:
ToF-SIMS Instrument
  • 批准号:
    7040267
  • 项目类别:
  • 资助金额:
    $49.98万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    DAVID G CASTNER
  • 依托单位:
海外基金