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Ion Beam Etching System For Support of Microelectronics Research

Ion Beam Etching System For Support of Microelectronics Research
支持微电子研究的离子束蚀刻系统
批准号：
7811474
负责人：
Kensall Wise
金额：
$2.12万
依托单位：
Regents of the University of Michigan - Ann Arbor
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1978
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1978-09-01 至 1980-02-29
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=7811474&HistoricalAwards=false
关键词：
IonBeamEtchingSystemSupport

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