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Ion Beam Etching System For Support of Microelectronics Research
支持微电子研究的离子束蚀刻系统
基本信息
- 批准号：7811474
- 负责人：
- 金额：$ 2.12万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1978
- 资助国家：美国
- 起止时间：1978-09-01 至 1980-02-29
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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I-Corps: Clinical Grade Microelectromechanical Neurostimulators
I-Corps：临床级微机电神经刺激器
- 批准号：
1244990 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Workshop On: Micro/Nanoelectronics: Devices and Technologies for Biomedical Applications. The Workshop will be held at IMEC in Leuven, Belgium from September 25-26, 2008.
研讨会主题：微/纳米电子学：生物医学应用设备和技术。
- 批准号：
0843482 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
NSF ERC Administrative Directors Summer Meeting 2004
NSF ERC 行政主任 2004 年夏季会议
- 批准号：
0431381 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
An Engineering Research Center In Wireless Integrated Microsystems
无线集成微系统工程研究中心
- 批准号：
9986866 - 财政年份：2000
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Cooperative Agreement
1997 International Conference on Solid-State Sensors and Actuators to be held in Chicago on June 16-19, 1997
1997年固态传感器和执行器国际会议将于1997年6月16-19日在芝加哥举行
- 批准号：
9713494 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Chemical Vapor Deposition Equipment for Thin Film Integrated Sensor Fabrication
用于薄膜集成传感器制造的化学气相沉积设备
- 批准号：
9413559 - 财政年份：1994
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
A High-Performance Vacuum Evaporation System
高性能真空蒸发系统
- 批准号：
8305962 - 财政年份：1983
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Processing Techniques For Silicon Microstructures
硅微结构加工技术
- 批准号：
7916459 - 财政年份：1980
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Instability Mechanisms in Batch Fabricated Solid-State Pressure Sensors
批量制造的固态压力传感器的不稳定机制
- 批准号：
7608297 - 财政年份：1976
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
相似国自然基金
完全共振高次带导数Beam方程的拟周期解研究
- 批准号：12301229
- 批准年份：2023
- 资助金额：30.00 万元
- 项目类别：青年科学基金项目
基于CPU+多GPU构架的图像引导放疗低剂量Cone Beam CT高质量重建系统的研究
- 批准号：81803056
- 批准年份：2018
- 资助金额：21.0 万元
- 项目类别：青年科学基金项目
基于SiPM的高性能In-Beam TOF-PET的研究
- 批准号：11475234
- 批准年份：2014
- 资助金额：100.0 万元
- 项目类别：面上项目
相似海外基金
Ultra-precise fabrication technology by location specific atomic layer etching with cluster beam
利用簇束进行位置特定原子层蚀刻的超精密制造技术
- 批准号：
22H01378 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of multicharged ion beam assisted processing technology for high-speed etching of titanium micro mold
钛微模具高速刻蚀多电荷离子束辅助加工技术开发
- 批准号：
17K06101 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Atomic layer etching of transition metal chalcogenide with gas cluster ion beam
气体团簇离子束对过渡金属硫族化物的原子层刻蚀
- 批准号：
17K05061 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Nanopatterning of functional materials by transfer of nanoimprint-guided ordered block copolymer structures by means of reactive ion beam etching
通过反应离子束蚀刻转移纳米压印引导的有序嵌段共聚物结构来形成功能材料的纳米图案
- 批准号：
281331116 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Research Grants
Directional ion beam etching for nanodevice fabrication
用于纳米器件制造的定向离子束蚀刻
- 批准号：
440446-2013 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Research Tools and Instruments - Category 1 (<$150,000)
Trial manufacture offine finish diamond etching machine using electron, ion, and laser beam.
试制电子、离子、激光束精加工金刚石蚀刻机。
- 批准号：
12650123 - 财政年份：2000
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
SBIR Phase I: Development of a Hypervelocity Neutral Beam Tool for Selective, Damage-Free and Anisotropic Etching of Silicon Dioxide
SBIR 第一阶段：开发超高速中性束工具，用于二氧化硅的选择性、无损伤和各向异性蚀刻
- 批准号：
9761497 - 财政年份：1998
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Two-Dimensional X-Ray Collimation Grid by Ion Beam Etching
离子束蚀刻二维 X 射线准直网格
- 批准号：
9361195 - 财政年份：1994
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Standard Grant
Fundamental research on low energy electron beam assisted selective etching and deposition for submicron LSI fabrication
低能电子束辅助选择性刻蚀和亚微米LSI沉积沉积基础研究
- 批准号：
03452181 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
Improvement and application of high-vacuum evaporater with condensed-light beam heater for deep-etching replication of TEM specimen
聚光束加热器高真空蒸发器深蚀复制TEM样品的改进及应用
- 批准号：
02559005 - 财政年份：1990
- 资助金额：
$ 2.12万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)