Etching of Aluminum in Halogen-Containing Gasses and Plasmas
含卤素气体和等离子体中的铝蚀刻
基本信息
- 批准号:8319353
- 负责人:
- 金额:$ 20.47万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Continuing Grant
- 财政年份:1984
- 资助国家:美国
- 起止时间:1984-03-15 至 1987-08-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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