Etching of Aluminum in Halogen-Containing Gasses and Plasmas

含卤素气体和等离子体中的铝蚀刻

基本信息

  • 批准号:
    8319353
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 20.47万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 财政年份:
    1984
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1984-03-15 至 1987-08-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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