Plasma Etching of Thin Films For Integrated Circuits

集成电路薄膜的等离子蚀刻

基本信息

  • 批准号：
    7812236
  • 负责人：
    Dennis Hess
  • 金额：
    $ 7.8万
  • 依托单位：
    University of California-Berkeley
  • 依托单位国家：
    美国
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 财政年份：
    1979
  • 资助国家：
    美国
  • 起止时间：
    1979-01-15 至 1981-06-30
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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