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Electron-Beam Lithography System

电子束光刻系统

基本信息

批准号：
9512229
负责人：
Nasser Peyghambarian
金额：
$ 25万
依托单位：
University of Arizona
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1995
资助国家：
美国
起止时间：
1995-09-01 至 1997-08-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=9512229&HistoricalAwards=false
关键词：
Electron Beam Lithography System

项目摘要

9512229 Peyghambarian This proposal request an electron-beam (e-beam) lithography system for micro and nanolithography. The system consists of a modified scanning-electron microscope (SEM) (with the necessary software and hardware) and will be installed in a clean-room area within the Optical Sciences Center. The system is required for the fabrication of optoelectronic components, such as nonlinear gratings, circular grating lasers, photorefractive polymer waveguides, organic LEDs and laser diode devices, and quantum wire and dot semiconductor lasers. ***

小行星9512229 该方案要求一种用于微米和纳米光刻的电子束光刻系统。该系统包括一个改进的扫描电子显微镜（SEM）（与必要的软件和硬件），并将安装在光学科学中心内的洁净室区域。该系统需要用于制造光电元件，例如非线性光栅、圆形光栅激光器、光折变聚合物波导、有机LED和激光二极管器件以及量子线和点半导体激光器。 ***

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

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