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Electron-Beam Lithography System

Electron-Beam Lithography System
电子束光刻系统
批准号:
9512229
负责人:
Nasser Peyghambarian
金额:
$25.0万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1995
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1995-09-01 至 1997-08-31

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9512229 Peyghambarian This proposal request an electron-beam (e-beam) lithography system for micro and nanolithography. The system consists of a modified scanning-electron microscope (SEM) (with the necessary software and hardware) and will be installed in a clean-room area within the Optical Sciences Center. The system is required for the fabrication of optoelectronic components, such as nonlinear gratings, circular grating lasers, photorefractive polymer waveguides, organic LEDs and laser diode devices, and quantum wire and dot semiconductor lasers. ***
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会议论文
Scalable Array Packaging for Optoelectronic Components
  • 批准号:
    0946397
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $50.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Nasser Peyghambarian
  • 依托单位:
CIAN's New Testbed for Optical Aggregation Networking (TOAN)
  • 批准号:
    0946412
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $60.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Nasser Peyghambarian
  • 依托单位:
NSF Engineering Research Center for Integrated Access Networks (CIAN)
  • 批准号:
    0812072
  • 项目类别:
    Cooperative Agreement
  • 资助金额:
    $1850.0万
  • 财政年份:
    2008
  • 负责人:
    Nasser Peyghambarian
  • 依托单位:
Photonic Crystal and Nanostructured Fiber Lasers and Devices
  • 批准号:
    0725479
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2007
  • 负责人:
    Nasser Peyghambarian
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
完全共振高次带导数Beam方程的拟周期解研究
  • 批准号:
    12301229
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    30.00万元
  • 批准年份:
    2023
  • 负责人:
    葛传芳
  • 依托单位:
基于CPU+多GPU构架的图像引导放疗低剂量Cone Beam CT高质量重建系统的研究
  • 批准号:
    81803056
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    21.0万元
  • 批准年份:
    2018
  • 负责人:
    宋莹
  • 依托单位:
基于SiPM的高性能In-Beam TOF-PET的研究