Hochleistungs-Sputtering Anlage mit Zubehör
Hochleistungs-Sputtering Anlage mit Zubehör
批准号:
204116194
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2011
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2010-12-31 至 --
中文摘要
“Das Hauptgerät (HPPMS Reaktor) wid im bewilligliteilprojekt A5 (HPPMS Plasmen: ts- and zeitaufgelöste Charakterisierung) des Transregio-SFB 87”Gepulste Hochleistungsplasmen zur syns -these nanostruckturiterfunktionsschichten”eingesetzt。2 . die zentrale Forschungsapparatur dar和ist fbr die forschungssarbeen unverzichtbar。在Rahmen des TR87中,Die Anlage是隐含的。Vergleichbare Geräte既存在又存在Ruhr-Universität night。Ein Teilgerät (Präparationsteil) dient zusätzlich zu den präparativen Arbeiten f<e:1> r das o.g Projekt auch der Herstellung von microplasplasma - arrays f<e:1> r das Teilprojekt A1(在kHz和MHz频率下激发的微放电的激发和反应动力学的光谱研究)der Forschergruppe FOR 1123“微等离子体物理学”。塞纳河verf<s:1> gbarkeit ist f<e:1> r den Fortsetzungsantrag der FOR1123 von Bedeutung。Das Zubehörteil(密集ccd相机)客户端der ert<s:1> chtigung eines vorhandenen hochauflösen-den光谱仪<e:1> r die Untersuchung von HPPMS Plasmen。”
英文摘要
„Das Hauptgerät (HPPMS Reaktor) wird im bewilligten Teilprojekt A5 (HPPMS Plasmen: Orts- und zeitaufgelöste Charakterisierung) des Transregio-SFB 87 „Gepulste Hochleistungsplasmen zur Syn-these nanostrukturierter Funktionsschichten" eingesetzt. Es stellt die zentrale Forschungsapparatur dar und ist für die Forschungsarbeiten unverzichtbar. Die Anlage ist implizit im Rahmen des TR87 mit begutachtet worden. Vergleichbare Geräte existieren an der Ruhr-Universität nicht. Ein Teilgerät (Präparationsteil) dient zusätzlich zu den präparativen Arbeiten für das o.g. Projekt auch der Herstellung von Mikroplasma-Arrays für das Teilprojekt A1 (Spectroscopic investigations of excitation and reaction dynamics of microdischarges excited at kHz and MHz frequencies) der Forschergruppe FOR 1123 „Physics of Microplasmas". Seine Verfügbarkeit ist für den Fortsetzungsantrag der FOR1123 von Bedeutung. Das Zubehörteil (intensivierte CCD-Kamera) dient der Ertüchtigung eines vorhandenen hochauflösen-den Spektrometers für die Untersuchung von HPPMS Plasmen.“
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Current–voltage characteristics and fast imaging of HPPMS plasmas: transition from self-organized to homogeneous plasma regimes
HPPMS 等离子体的电流电压特性和快速成像:从自组织到均匀等离子体状态的转变
DOI:
10.1088/0022-3727/46/33/335201
发表时间:
2013
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[de los Arcos T, Layes V, Aranda Gonzalvo Y, Schulz-von der Gathen V, Hecimovic A, Winter J]
通讯作者:
Winter J
Instabilities in high-power impulse magnetron plasmas: from stochasticity to periodicity
高功率脉冲磁控管等离子体的不稳定性:从随机性到周期性
DOI:
10.1088/0022-3727/46/8/084007
发表时间:
2013
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[Winter J, Hecimovic A, De los Arcos T, Böke M, Schulz-von der Gathen V]
通讯作者:
Schulz-von der Gathen V
Target implantation and redeposition processes during high-power impulse magnetron sputtering of aluminum
高功率脉冲磁控溅射铝靶材注入和再沉积过程
DOI:
10.1088/0022-3727/46/8/084009
发表时间:
2013
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[Will A, De los Arcos T, Corbella C, Hecimovic A, Machura PD, Winter J]
通讯作者:
Winter J
The characteristic shape of emission profiles of plasma spokes in HiPIMS: the role of secondary electrons
HiPIMS 中等离子体辐条发射轮廓的特征形状:二次电子的作用
DOI:
10.1088/0022-3727/47/10/102003
发表时间:
2014
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[Hecimovic A, Böke M, Winter J]
通讯作者:
Winter J
Spoke rotation reversal in magnetron discharges of aluminium, chromium and titanium
铝、铬和钛磁控管放电中辐条旋转反转
DOI:
10.1088/0963-0252/25/3/035001
发表时间:
2016
期刊:
Plasma Sources Science and Technology
影响因子:
3.8
作者:
[Hecimovic A, C Maszl, V Schulz-von der Gathen, M Böke, A von Keudell]
通讯作者:
A von Keudell
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