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Hochleistungs-Sputtering Anlage mit Zubehör

高性能溅射系统及配件

基本信息

批准号：
204116194
负责人：
金额：
--
依托单位：
Ruhr-Universität Bochum
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2011
资助国家：
德国
起止时间：
2010-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/204116194?language=en
关键词：
Hochleistungs Sputtering Anlage mit Zubeh

项目摘要

„Das Hauptgerät (HPPMS Reaktor) wird im bewilligten Teilprojekt A5 (HPPMS Plasmen: Orts- und zeitaufgelöste Charakterisierung) des Transregio-SFB 87 „Gepulste Hochleistungsplasmen zur Syn-these nanostrukturierter Funktionsschichten" eingesetzt. Es stellt die zentrale Forschungsapparatur dar und ist für die Forschungsarbeiten unverzichtbar. Die Anlage ist implizit im Rahmen des TR87 mit begutachtet worden. Vergleichbare Geräte existieren an der Ruhr-Universität nicht. Ein Teilgerät (Präparationsteil) dient zusätzlich zu den präparativen Arbeiten für das o.g. Projekt auch der Herstellung von Mikroplasma-Arrays für das Teilprojekt A1 (Spectroscopic investigations of excitation and reaction dynamics of microdischarges excited at kHz and MHz frequencies) der Forschergruppe FOR 1123 „Physics of Microplasmas". Seine Verfügbarkeit ist für den Fortsetzungsantrag der FOR1123 von Bedeutung. Das Zubehörteil (intensivierte CCD-Kamera) dient der Ertüchtigung eines vorhandenen hochauflösen-den Spektrometers für die Untersuchung von HPPMS Plasmen.“

“Das Hauptgerät（HPPMS Reaktor）wird im confuseligten Teilprojekt A5（HPPMS Plasmen：Orts- und zeitaufgelöste Charakterisierung）des Transregio-SFB 87”Gepulste Hoistungsplashmen zur Syn-these nanostrukturierter Funktionsschichten”eingesetzt. Es stelt die zentrale Forschungsapparatus dar und ist für die Forschungsarbeiten unverzichtbar.原材料是用沃登在TR 87的表面上涂上的。鲁尔大学的学生不需要。Ein Teilgerät（Präparationsteil）dient zusätzlich zu den präparativen Arbeiten für das o.g. Projekt auch der Herstellung von Mikroplasma-Arrays für das Teilprojekt A1（Spectroscopic investigations of excitation and reaction dynamics of microdischarge excited at kHz and MHz frequencies）der Forschergruppe FOR 1123“Physics of Microplasmas”. Seine Verfügbarkeit ist fr den Fortsetzungsantrag der FOR1123 von Bedeutung. Das Zubehörteil（intensivierte CCD-Camera）dient der Ertüchtigung eines vorhandenen hochauflösen-den Spektrometers für die Untersuchung von HPPMS Plasmen.“

项目成果

期刊论文数量（9）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Current–voltage characteristics and fast imaging of HPPMS plasmas: transition from self-organized to homogeneous plasma regimes

HPPMS 等离子体的电流电压特性和快速成像：从自组织到均匀等离子体状态的转变

DOI：
10.1088/0022-3727/46/33/335201
发表时间：
2013
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
0
作者：
de los Arcos T;Layes V;Aranda Gonzalvo Y;Schulz-von der Gathen V;Hecimovic A;Winter J
通讯作者：
Winter J

Instabilities in high-power impulse magnetron plasmas: from stochasticity to periodicity

高功率脉冲磁控管等离子体的不稳定性：从随机性到周期性