GOALI: CVD of Metal Oxides for Optoelectronic Applications
GOALI:用于光电应用的金属氧化物 CVD
基本信息
- 批准号:1213965
- 负责人:
- 金额:$ 45万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:2012
- 资助国家:美国
- 起止时间:2012-08-01 至 2017-07-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
In this project funded by the Chemistry Division and the Office of Multidisciplinary Activities of the Directorate for Mathematical and Physical Sciences, Professors Lisa McElwee-White and Tim Anderson of the University of Florida will work with Dr. Gary S. Silverman of Arkema Inc. on a vertically integrated approach to developing chemistries for cost-effective and scalable chemical vapor deposition of tungsten oxide injection layers for organic optoelectronic devices. The researchers use mechanism-based precursor design accompanied by computational chemistry tools to evaluate potential precursors before synthesis. Synthesis of the precursors is followed by a rapid screening process that sends only the most promising precursors to the film demonstration step. Aalternative precursor delivery systems designed for all molecules independent of volatility are also considered, thus including the full range of possible precursors. Close collaboration with industry will facilitate process development and optimization including reactor modeling, thus increasing the likelihood of successful technology transfer.This project brings together collaborators with complementary chemistry, chemical engineering, materials and industrial process development expertise to address a critical problem in the manufacture of organic optoelectronic devices. The target application is OLED devices for general illumination, which have the potential for significant energy savings. Through working on an interdisciplinary project involving academic-industrial collaboration, students will gain exposure to team-based training and problem solving skills that reach outside their own disciplines of graduate study. Six-month internships at the Arkema site will give students exposure to industrial practice that will broaden their perspectives beyond academic research. In addition, participating faculty will have the opportunity to integrate their added insight from industrial collaboration into their courses.
在这个由化学部和数学和物理科学局多学科活动办公室资助的项目中,佛罗里达大学的Lisa McElwee-White教授和Tim Anderson教授将与Arkema Inc.的Gary S.Silverman博士合作,采用垂直集成的方法开发化学物质,用于经济高效和可扩展的化学气相沉积有机光电子器件的钨注入层。研究人员使用基于机理的前体设计,并辅之以计算化学工具,在合成之前评估潜在的前体。前体的合成之后是一个快速筛选过程,该过程只将最有希望的前体送到电影演示步骤。还考虑了为所有分子设计的与挥发性无关的替代前体输送系统,从而包括了所有可能的前体。与工业界的密切合作将促进包括反应器建模在内的工艺开发和优化,从而增加成功技术转让的可能性。该项目将具有互补的化学、化学工程、材料和工业工艺开发专业知识的合作者聚集在一起,以解决有机光电子器件制造中的关键问题。目标应用是用于普通照明的OLED设备,这具有显著节省能源的潜力。通过参与一个涉及学术和产业合作的跨学科项目,学生们将获得基于团队的培训和解决问题的技能,这些技能超出了他们自己的研究生学习学科。在Arkema工厂为期6个月的实习将使学生接触到工业实践,这将拓宽他们的视野,使其超越学术研究。此外,参与课程的教师将有机会将他们从行业合作中获得的更多见解融入到他们的课程中。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Lisa McElwee-White其他文献
Reaction of (CO)<sub>5</sub>W(THF) with triphenylmethyl azide and triptycyl azide
- DOI:
10.1016/0022-328x(94)24776-f - 发表时间:
1995-01-11 - 期刊:
- 影响因子:
- 作者:
Scott T. Massey;Baubak Mansour;Lisa McElwee-White - 通讯作者:
Lisa McElwee-White
Electrochemical oxidation of ethanol using Nafion electrodes modified with heterobimetallic catalysts
- DOI:
10.1016/j.ica.2011.01.011 - 发表时间:
2011-04-15 - 期刊:
- 影响因子:
- 作者:
Ahmed Moghieb;Marie C. Correia;Lisa McElwee-White - 通讯作者:
Lisa McElwee-White
Computational study on transamination of alkylamides with NH<sub>3</sub> during metalorganic chemical vapor deposition of tantalum nitride
- DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2009.05.003 - 发表时间:
2009-07-01 - 期刊:
- 影响因子:
- 作者:
Yong Sun Won;Sung Soo Park;Young Seok Kim;Timothy J. Anderson;Lisa McElwee-White - 通讯作者:
Lisa McElwee-White
Microwave spectrum and molecular structure calculations for η<sup>4</sup>-butadiene ruthenium tricarbonyl
- DOI:
10.1016/j.jms.2024.111949 - 发表时间:
2024-10-01 - 期刊:
- 影响因子:
- 作者:
Adam M. Daly;Kristen K. Roehling;Rhett P. Hill;Myla G. Gonzalez;Xin Kang;Lisa McElwee-White;Stephen G. Kukolich - 通讯作者:
Stephen G. Kukolich
Lisa McElwee-White的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Lisa McElwee-White', 18)}}的其他基金
Collaborative Research: Photoassisted CVD for Low Temperature Area Selective Deposition
合作研究:用于低温区域选择性沉积的光辅助 CVD
- 批准号:
2216070 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Collaborative Research: Surface Reactivity of Organometallic Precursors in Electron- and Ion-Induced Deposition of Metal Nanostructures
合作研究:电子和离子诱导金属纳米结构沉积中有机金属前体的表面反应性
- 批准号:
1904802 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Support of the American Chemical Society Graduate Student Symposium, New Orleans, March 18-20, 2018
美国化学会研究生研讨会的支持,新奥尔良,2018 年 3 月 18-20 日
- 批准号:
1819609 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
MRI: Acquisition of an X-Ray Diffractometer for Next Generation Functional Molecules and Materials
MRI:购买用于下一代功能分子和材料的 X 射线衍射仪
- 批准号:
1828064 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Collaborative Research: Designing Organometallic Precursors for Focused Electron Beam Induced Deposition of Metal Nanostructures
合作研究:设计用于聚焦电子束诱导金属纳米结构沉积的有机金属前体
- 批准号:
1607547 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Collaborative Research: Photolytic CVD Processes for Thermally Sensitive Substrates
合作研究:热敏基材的光解 CVD 工艺
- 批准号:
1608873 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
CCI Phase I: Center for Nanostructured Electronic Materials
CCI第一期:纳米结构电子材料中心
- 批准号:
1038015 - 财政年份:2010
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Mechanism-Based Approaches for CVD/ALD of Cu Barriers
基于机制的铜势垒 CVD/ALD 方法
- 批准号:
0911640 - 财政年份:2009
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Continuing Grant
Alternative Chemistries for Barrier Materials in Cu Metallization
铜金属化中阻挡材料的替代化学物质
- 批准号:
0304810 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Continuing Grant
Formation of Organic Products by Oxidation of Metal Carbynes
金属卡宾氧化形成有机产物
- 批准号:
9421434 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Continuing Grant
相似国自然基金
超宽禁带半导体金刚石CVD制备与掺杂技术研发
- 批准号:2025QK3013
- 批准年份:2025
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
CVD 金刚石薄膜在原子气室中的抗弛豫原理
与方法研究
- 批准号:Q24F040034
- 批准年份:2024
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
“缓释控源”CVD精准合成转角二维范德华异质结及其神经突触器件研究
- 批准号:62404060
- 批准年份:2024
- 资助金额:0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
(xZrC-yHfC-zSiC)/SiC多层交替涂层的多相共沉积机理及其一步CVD法制备研究
- 批准号:52302071
- 批准年份:2023
- 资助金额:30.00 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
PEDOT电极纳米结构的CVD制备及其在柔性钙钛矿电池中的应用研究
- 批准号:2023J01087
- 批准年份:2023
- 资助金额:10.0 万元
- 项目类别:省市级项目
基于气象环境数据与机器学习集成的东北地区CVD健康风险管理优化研究
- 批准号:72304273
- 批准年份:2023
- 资助金额:30.00 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
CVD石墨烯作为模板制备高质量sp2碳共轭2D COFs薄膜
- 批准号:
- 批准年份:2022
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
基于低缺陷CVD单晶金刚石的高电荷收集效率电离辐射探测器的基础研究
- 批准号:52261135545
- 批准年份:2022
- 资助金额:105.00 万元
- 项目类别:国际(地区)合作与交流项目
扭角叠层二维材料的CVD可控生长及性能调控
- 批准号:
- 批准年份:2021
- 资助金额:58 万元
- 项目类别:面上项目
超长径比内腔表面CVD渗层改性机理与表面构筑
- 批准号:
- 批准年份:2021
- 资助金额:58 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
CVD Technique for Homogeneous Deposition of Metal Oxide Nanoparticles by Controlling Gas Diffusion
控制气体扩散均匀沉积金属氧化物纳米粒子的CVD技术
- 批准号:
18K04820 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Solution based CVD Approach to Metal Sulfide Thin Films
基于溶液的金属硫化物薄膜 CVD 方法
- 批准号:
1927626 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Studentship
Platelet Mitochondrial Epigenetics: New CVD Markers of Particle and Metal Effects
血小板线粒体表观遗传学:粒子和金属效应的新 CVD 标记
- 批准号:
8637521 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Platelet Mitochondrial Epigenetics: New CVD Markers of Particle and Metal Effects
血小板线粒体表观遗传学:粒子和金属效应的新 CVD 标记
- 批准号:
8792388 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Morphology and surface controlled growth of metal oxides nanowires by atmospheric pressure CVD and Their high sensitive gas-sensing applications
常压CVD金属氧化物纳米线的形貌和表面控制生长及其高灵敏气敏应用
- 批准号:
26390029 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Improvement of mobility for CVD graphene by removing catalytic metal
通过去除催化金属提高 CVD 石墨烯的迁移率
- 批准号:
24656456 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Preparation of Titania Coating on Dental metals by Microwave Plasma CVD -In Search of White Metal-
微波等离子体CVD在牙科金属上制备二氧化钛涂层-寻找白色金属-
- 批准号:
23592829 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Metal Chelators and thiols in Endothelial Function and CVD
内皮功能和 CVD 中的金属螯合剂和硫醇
- 批准号:
7902737 - 财政年份:2009
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Reactions of First Row Transition Metal 2,4 Pentanedionato Complexes in CVD Processes
第一行过渡金属 2,4 戊二酮配合物在 CVD 过程中的反应
- 批准号:
0076685 - 财政年份:2000
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Standard Grant
Metal Boride Thin Films: Synthesis of CVD Precursors and Growth by Remote-Plasma CVD
金属硼化物薄膜:CVD 前体的合成和远程等离子体 CVD 生长
- 批准号:
0076061 - 财政年份:2000
- 资助金额:
$ 45万 - 项目类别:
Continuing Grant














{{item.name}}会员




