マイクロ波励起リモ-トプラズマを用いた混晶半導体の低温成長
マイクロ波励起リモ-トプラズマを用いた混晶半導体の低温成長
批准号:
02205059
负责人:
吉田 明
金额:
$1.02万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --
中文摘要
短波長可視光領域におけるバンドギャップ制御可能なオプトエレクトロニクス材料として、窒化物混晶半導体材料が注目され,橙色から青色発光素子や高効率太陽電池材料への応用が期待されている。しかし,窒化インジウム単結晶成長は非常に困難であり,殆んど報告がない。我々はマイクロ波励起リモ-トプラズマを用いた有機金属成長法を提案することにより,サファイア基板上の単結晶薄膜成長に成功した。以後世界各地で各種の方法により単結晶薄膜成長が発表され,活発に研究されているが,未だその基礎物性は明らかではない。本研究では,プラズマ発光スペクトル,マイクロ波パワ-依存性,基板温度依存性などを明らにし,学会誌に公表してきた。またESCAによる組成分析,RHEEDによる構造解析を進めるとともに、可視紫外領域における吸収反射スペクトル測定,ラマン測定を行ない,多くの知見を得て各種学会に報告した。さらに真空紫外光の反射スペクトル測定からクラマ-スクロニッヒ解析によりバンド構造の検討を行なった。またマイクロ硬度測定および各種エッチング液によるエッチング表面観察を試みている。次に原料のトリメチルインジュウムにトリメチルアルミニウムを加えることによりInAlN混晶の作製に成功した。可視紫外光吸収測定からバンドギャップを決定し,混晶比によりバンドギャップの制御可能であることが実証された。現在,この混晶薄膜成長の最適条件を明らかにするとともに、組成比を正確に決定し,その基礎物性を解明している。これらの新しい窒化物混晶半導体の結晶性を改善することにより,新しいオプトエレクトロニクス材料への応用を試みる。
英文摘要
短波長可視光領域におけるバンドギャップ制御可能なオプトエレクトロニクス材料として、窒化物混晶半導体材料が注目され,橙色から青色発光素子や高効率太陽電池材料への応用が期待されている。しかし,窒化インジウム単結晶成長は非常に困難であり,殆んど報告がない。我々はマイクロ波励起リモ-トプラズマを用いた有機金属成長法を提案することにより,サファイア基板上の単結晶薄膜成長に成功した。以後世界各地で各種の方法により単結晶薄膜成長が発表され,活発に研究されているが,未だその基礎物性は明らかではない。本研究では,プラズマ発光スペクトル,マイクロ波パワ-依存性,基板温度依存性などを明らにし,学会誌に公表してきた。またESCAによる組成分析,RHEEDによる構造解析を進めるとともに、可視紫外領域における吸収反射スペクトル測定,ラマン測定を行ない,多くの知見を得て各種学会に報告した。さらに真空紫外光の反射スペクトル測定からクラマ-スクロニッヒ解析によりバンド構造の検討を行なった。またマイクロ硬度測定および各種エッチング液によるエッチング表面観察を試みている。次に原料のトリメチルインジュウムにトリメチルアルミニウムを加えることによりInAlN混晶の作製に成功した。可視紫外光吸収測定からバンドギャップを決定し,混晶比によりバンドギャップの制御可能であることが実証された。現在,この混晶薄膜成長の最適条件を明らかにするとともに、組成比を正確に決定し,その基礎物性を解明している。これらの新しい窒化物混晶半導体の結晶性を改善することにより,新しいオプトエレクトロニクス材料への応用を試みる。
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A.Wakahara: "Epitaxial growth of Indium Nitride" Journal of Crystal Growth. 99. 385-389 (1990)
A.Wakahara:“氮化铟的外延生长”晶体生长杂志。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
A.Yoshida: "InN epitaxial films by microwaveーexcited metalorganic vapor phase epitaxy" 第7回気相成長・エピタキシ-国際会議. (1991)
A. Yoshida:“微波激发金属有机气相外延的 InN 外延薄膜”第七届国际气相外延和外延会议(1991 年)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.Yoshida: "Reflection spectra of InN Compound semiconductors" 東大物性研究所(INSーSOR)Activity Report.
A. Yoshida:“InN 化合物半导体的反射光谱”东京大学固体物理研究所 (INS-SOR) 活动报告。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.Wakahara: "Epitaxial layers of Indium Nitride by microwaveーexcited metalorganic vapor phase epitaxy" Vacuum. 41. 1071-1073 (1990)
A.Wakahara:“通过微波激发金属有机气相外延形成氮化铟外延层”真空。 41. 1071-1073 (1990)
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
土谷 徹: "InN単結晶薄膜の作成と評価" 電子情報通信学会電子デバイス専門研究会. EDー90ー165. 69-74 (1991)
Toru Tsuchiya:“InN 单晶薄膜的制备和评估”IEICE 电子器件专家研究组 ED-90-165 (1991)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
非ゲノム性環境ホルモン標的蛋白質の機能プロテオミクス
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批准号:15510056
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2003
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负责人:吉田 明
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依托单位:
カーボンナノチューブの電界効果およびトランジスタへの応用
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批准号:12875003
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:吉田 明
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依托单位:
ニューレキシンの多様性発現機構の解明
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批准号:08680848
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1996
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负责人:吉田 明
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依托单位:
神経伝達物質放出の分泌装置複合体を形成するシンタキシン/VAMPの役割
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批准号:06680771
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1994
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负责人:吉田 明
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依托单位:
トポイソメラーゼ阻害剤による白血病細胞のアポトーシス誘発機構の解明
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批准号:06770844
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1994
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负责人:吉田 明
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依托单位:
神経伝達物質遊離に関わるフクティブゾーン複合体の生理機能
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批准号:06253217
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1994
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负责人:吉田 明
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依托单位:
マイクロ波励起リモートプラズマを用いた新しい混晶半導体単結晶薄膜成長とその応用
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批准号:04205130
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1992
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负责人:吉田 明
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依托单位:
マイクロ波励起リモ-トプラズマを用いた新しい混晶半導体単結晶薄膜成長
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批准号:03205063
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1991
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负责人:吉田 明
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依托单位:
極端紫外光による高性能アモルファス材料の作製と高効率太陽電池への応用
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批准号:03203233
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1991
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负责人:吉田 明
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依托单位:
高効率多層アモルファス太陽電池の高エネルギ照射劣化現象
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批准号:63603011
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1988
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负责人:吉田 明
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依托单位:
高効率アモルファス太陽電池のシンクロトロン放射光による劣化現象
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批准号:62603012
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.47万
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财政年份:1987
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负责人:吉田 明
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依托单位:
アモルファス半導体の交流電気伝導度に関する研究
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批准号:58550010
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1983
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负责人:吉田 明
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依托单位:
半導体セラミック素子の動作機構に関する研究
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批准号:X00090----355143
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1978
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负责人:吉田 明
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依托单位:
非晶質SiC-Siヘテロ接合太陽電池の試作
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批准号:X00120----385052
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1978
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负责人:吉田 明
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依托单位:
非晶質半導体の高電界下における電気伝導機構
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批准号:X00090----255006
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1977
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负责人:吉田 明
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依托单位:
化合物半導体表面構造分析および電子的性質とその応用
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批准号:X00040----021813
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1975
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负责人:吉田 明
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依托单位:
海外基金