インターエレメント結合による新機能性材料設計のための界面量子化学

通过元素间键合设计新型功能材料的界面量子化学

• 批准号: 10133229
• 负责人: 立花 明知
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
• 财政年份: 1998
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1998 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-10133229/
• 关键词: 機能性材料; 化学気相成長; 界面量子化学; 領域密度汎関数理論; バリアメタル; シリコン; イオン重合; トランスアミネーション

21世紀に本格化すると予想される高度情報化社会に向けて、新機能性半導俸デバイスの開発が急速に進展し、金属・半導体・絶縁体の界面構造を原子スケールで制御する化学気相成長(CVD)素過程の解明と制御への期待が一気に高まり、これに呼応して、まさに原子スケール界面を強く意識した量子化学が、理論化学としても、また具体的技術としても確立されることが時代の要請として焦眉の急となっている。申請者は、領域電子密度汎関数理論的視点から、s、p、d、f軌道等電子波動関数の干渉性の差に基づくインターエレメント結合の特性・反応性を理論的に明かにし、界面固有の電子状態の化学的成り立ちや原子核運動のダイナミクスも加わる界面の新現象に到るまでを理論的に研究すると共に、新たな機能を有する材料設計のための界面量子化学とでも呼称すべき新しい学問の礎を築くことを目的とした研究を行った。具体的には、(1)酸素ラジカルによるSi表面酸化反応機構、(2)ClF3クリーニングTiNバリヤーメタルAl選択CVD反応機構、(3)アルキルアミドチタルーアンモニア系のTiN-CVD反応機構、(4)アルコキシオレフィン錯体を用いた銅CVD反応機構、および(5)F原子による水素終端Si表面エッチング反応機構の解明を系統的に行った。更に、申請者独自の領域電子密度汎関数理論に基づく界面固有の化学結合・反応性を表す理論的特性量を計算する新規プログラムを開発し、有限温度における電子の流れと言う全く新しい理論的視点から、孤立分子に関するcharge transfer、exchange、electrostatic、overlap repulsionなど波動関数に基づく従来型の反応性指数を完全に包含し、進んで界面固有の電子状態の化学的成り立ちや反応性を明かにする理論的研究を、水素終端Si表面の電子状態の解明を対象として開始した。

に this case in the 21st century the す る と to think さ れ に る highly intelligence society to け て, new functional half guide them デ バ イ ス の open 発 が し に progress rapidly, metal, semiconductor, never try の interface structure を atomic ス ケ ー ル で す system initiates a る chemical 気 phase process (CVD) grain growth is の interpret と suppression へ の expectation of a が 気 に high ま り, こ れ に shout 応 し て, ま さ に Strong atomic ス ケ ー ル interface を く consciousness し た が of quantum chemistry and theoretical chemistry と し て も, ま た specific technical と し て も establish さ れ る こ と が era の to please と し て JiaoMei の urgent と な っ て い る. Applicants は, electron density extensive masato number theory in the field of view か ら, s, p, d, f orbital electron wave masato の dry involved poor sexual の に base づ く イ ン タ ー エ レ メ ン ト の characteristics, anti 応 sex を theory に Ming か に し, inherent の electronic interface state の chemical into り made ち や nucleus movement の ダ イ ナ ミ ク ス も plus わ る interface の new phenomenon に to る ま で す に を theory research る と に, new た な function を have す る material design の た め の interface quantum chemistry と で も calls す べ き new し い の learning development built く を こ と を purpose と し た を line っ た. Specific に は, (1) acid ラ ジ カ ル に よ る Si surface acidification 応 institutions, (2) ClF3 ク リ ー ニ ン グ TiN バ リ ヤ ー メ タ ル Al sentaku CVD 応 institutions, (3) ア ル キ ル ア ミ ド チ タ ル ー ア ン モ ニ ア is の TiN - CVD 応 institutions, (4) ア ル コ キ シ オ レ フ ィ ン misprinted を with い た copper CVD Reverse 応 institutions, お よ び (5) F atoms に よ る water element terminal Si surface エ ッ チ ン グ の 応 authorities interpret を system line に っ た. More に, applicants の alone field electron density masato several theoretical base に づ く interface chemical combination, the inherent の 応 theory and the characteristic quantity of を table す を computing す る new rules プ ロ グ ラ ム を open 発 し, finite temperature に お け る electronic の flow れ と said う く all new し い theory viewpoint か ら, isolated molecular に masato す る charge transfer, exchange, electrostatic, overlap Repulsion な ど wave number of masato に base づ く 従 type to の anti 応 quality index を に contain し, completely into the ん で interface inherent の electronic state の chemical into り made ち や anti 応 sex を Ming か に す を る theory research, water element terminal の Si surface electronic state の interpret を like と seaborne し て began し た.

项目成果

Akitomo Tachibana: "Application of the Regional Density Functional Theory" Intenrational Journal of Quantun Chemistry. (印刷中). (1999)

Akitomo Tachibana：“区域密度泛函理论的应用”Intrenrational Journal of Quantun Chemistry（出版中）。

Ken Sakata: "Quantum Chemical Study of the Oxidation Sites in Hydrogen- and Water-Terminated Si Dimers" Jpn.J.Appl.Phys.37. 4962-4973 (1998)

Ken Sakata：“氢封端和水封端硅二聚体中氧化位点的量子化学研究”Jpn.J.Appl.Phys.37。

Akitomo Tachibana: "Chemical Poteutial Inequality Principle" Theoretical Chemistry Accounts. (印刷中). (1999)

Akitomo Tachibana：“化学势不等式原理”理论化学说明（出版中）。

Akitomo Tachibana: "Quantum Chemical Study of Low Pressure Gas Phase Cationic Polymerization Reactions in the Ti^+ and Isobutylene System" Theochem. (印刷中).

Akitomo Tachibana：“Ti^+ 和异丁烯体系中低压气相阳离子聚合反应的量子化学研究”Theochem（出版中）。

Akitomo Tachibana: "Quantum Chemical Study on the Oxidation of Hydrogen-Terminated Silicon Surface by Oxygen Anion" Jpn.J.Appl.Phys.37. 4493-4505 (1998)

Akitomo Tachibana：“氧阴离子氧化氢封端硅表面的量子化学研究”Jpn.J.Appl.Phys.37。