Untersuchung der Grundlagen der Prägelithographie (Nanoimprinting) im Hinblick auf die Herstellung von optischen Quantenbauelementen

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Ein neues Verfahren zur Erzeugung von Strukturen bis herab in den nm-Bereich ist die Prägelithographie (Nanoimprinting). Sie beruht auf der Abformung eines Stempels unter Druck und Temperatur in ein Polymer, das in einem anschließenden Strukturübertragungsprozeß (Trockenätzen) als Maske dient. Im Gegensatz zum Elektronenstrahlschreiben stellt das Prägen einen kostengünstigen Parallelprozeß dar. Für die Beurteilung der Einsatzfähigkeit dieses neuen Verfahrens ist die Untersuchung und Optimierung des Gesamtprozesses (Prägen und nachfolgendes Trockenätzen) im Zusammenhang mit der Materialoptimierung (viskoelastische Eigenschaften und Ätzresistenz des Polymers) erforderlich. Ziel ist ein Prozeß bei niedriger Temperatur und insbesondere niedrigem Druck. Dabei ist zu untersuchen, inwieweit die für eine gute Replikation erforderlichen Drücke zu Streß im zu strukturierenden Halbleitermaterial führen. Die genannten Fragestellungen werden im Zusammenhang mit der Herstellung optischer Quantenbauelemente untersucht. Dies stellt höchste Anforderungen sowohl in bezug auf die Spannungsfreiheit als auch in bezug auf eine anisotrope und schädigungsfreie Strukturierung im nm-Bereich.