紫外半導体レーザーの為の高輝度紫外発光III族窒素化物量子ドットに関する研究
紫外半導体レーザーの為の高輝度紫外発光III族窒素化物量子ドットに関する研究
批准号:
10875016
负责人:
平山 秀樹
金额:
$1.47万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
1998
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1998 至 1999
中文摘要
本研究の目的は、波長250〜300nm程度の紫外領域に於いて、高輝度発光半導体を研究開発し、紫外半導体レーザ実現の為の基礎的技術を開拓することである。本研究では、量子ドット構造を紫外発光半導体に導入し、ドットに閉じこめられた励起子の効果を用いて,半導体の光物性を根本から変化させることによって、高輝度紫外発光を得ることを目指している。本年度は、はじめに、紫外の短波領域における高輝度発光材料の開発を目指し、高いアルミニウム組成の窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)あるいは窒化アルミニウム(AlN)を用いた量子井戸構造の作製を行った。量子井戸構造の最適化を行うことにより最短波長(230nm帯)における低温高効率発光を実現した。AlGaN量子井戸の高効率発光は低温のみでしか得られないので、我々はさらに、室温高効率発光を実現するため、AlGaNへのインジウム(In)導入を行った。AlGaN中でのInの組成変調による量子ドット閉じ込め効果を利用し、高効率発光実現を試みた。Inを約5%程度含む、紫外発光4元混晶(InAlGaN)の結晶成膜条件をはじめて明らかにした。In導入によるAlGaN結晶品質の向上等の効果を明らかにし、高品質4元混晶作製に成功した。それを用いて量子井戸を作製することにより320nm帯の紫外高効率発光を室温に於いて実現した。
英文摘要
本研究の目的は、波長250〜300nm程度の紫外領域に於いて、高輝度発光半導体を研究開発し、紫外半導体レーザ実現の為の基礎的技術を開拓することである。本研究では、量子ドット構造を紫外発光半導体に導入し、ドットに閉じこめられた励起子の効果を用いて,半導体の光物性を根本から変化させることによって、高輝度紫外発光を得ることを目指している。本年度は、はじめに、紫外の短波領域における高輝度発光材料の開発を目指し、高いアルミニウム組成の窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)あるいは窒化アルミニウム(AlN)を用いた量子井戸構造の作製を行った。量子井戸構造の最適化を行うことにより最短波長(230nm帯)における低温高効率発光を実現した。AlGaN量子井戸の高効率発光は低温のみでしか得られないので、我々はさらに、室温高効率発光を実現するため、AlGaNへのインジウム(In)導入を行った。AlGaN中でのInの組成変調による量子ドット閉じ込め効果を利用し、高効率発光実現を試みた。Inを約5%程度含む、紫外発光4元混晶(InAlGaN)の結晶成膜条件をはじめて明らかにした。In導入によるAlGaN結晶品質の向上等の効果を明らかにし、高品質4元混晶作製に成功した。それを用いて量子井戸を作製することにより320nm帯の紫外高効率発光を室温に於いて実現した。
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H.Hirayama: "Fabrication of self-assembling InGaN and AlGaN Quantum-Dots on AlGaN Surfaces Using Anti-surfactant" Microelectronic Engineering(ELSEVIER). (accepted). (1999)
H.Hirayama:“使用抗表面活性剂在 AlGaN 表面上自组装 InGaN 和 AlGaN 量子点的制造”微电子工程(ELSEVIER)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
H.Hirayama: "230-250nm Photoluminescence from AlGaN QWs at 77k"Journal of Materials Research Society. (accepted). (2000)
H.Hirayama:“77k 处 AlGaN 量子线的 230-250nm 光致发光”材料研究学会杂志。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Hirayama: "Optical Properties of AlGaN Quantum Well Structures"Materials Reserch Society. (accepted). (2000)
H.Hirayama:“AlGaN 量子阱结构的光学特性”材料研究会。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Hirayama: "230-250nm intense emission from AlN/AlGaN quantum well"Physica tatus solidi. (submitted). (2000)
H.Hirayama:“AlN/AlGaN 量子阱的 230-250nm 强发射”Physica tatus Solidi。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Hirayama: "Fabrication of Self-assembling AlGaN Quantum Dots on AlGaN Surfaces Using Anti-surfactant" Materials Research Society. 537(accepted). (1999)
H.Hirayama:“使用抗表面活性剂在 AlGaN 表面上自组装 AlGaN 量子点的制造”材料研究学会。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
サブバンド間遷移機構の革新による未踏周波数・室温動作THz-QCL実現に関する研究
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批准号:24H00048
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
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资助金额:$131.04万
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财政年份:2024
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负责人:平山 秀樹
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依托单位:
国内基金
海外基金
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面向无人机应用的增强型p-gate
AlGaN/GaN HEMT高功率微波辐射效应及
机理研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2025
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负责人:何亮
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依托单位:
N极性AlGaN基深紫外全固态光源的极化
调控及光效提升
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2025
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负责人:王巧
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依托单位:
基于机器学习势的AlGaN合金中热输运的各向异性调控规律与机制研究
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批准号:2025JJ50043
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2025
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负责人:王慧敏
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依托单位:
AlGaN基自组织深紫外量子线阵列的辐射复合效率和出光模式协同调控
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:30.0万元
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批准年份:2024
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负责人:何晨光
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依托单位:
AlGaN/GaN HEMT射频器件ESD应力下损伤机理研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:叶然
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依托单位:
AlGaN/InGaN基 LED 发光材料物性研究及优化设计
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批准号:2024JJ7377
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:张顺如
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依托单位:
基于p-GaN/p-AlGaN堆栈式异质结深亚微米鳍栅增强型GaN p-MOSFETs新结构研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:15.0万元
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批准年份:2024
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负责人:周琦
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依托单位:
面向无线光通信的表面微纳结构AlGaN基深紫外光电子器件研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:30.0万元
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批准年份:2024
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负责人:路慧敏
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依托单位:
基于界面修饰路径的p型AlGaN三维超晶格能级耦合及微通道输运调控
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2023
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负责人:张康
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依托单位:
基于AlGaN材料的全固态日盲紫外/近红外双色探测器研究
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批准号:62374163
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项目类别:面上项目
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资助金额:48.00万元
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批准年份:2023
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负责人:缪国庆
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依托单位: