Low temperature deposition of barrierless insulating film applicable to 3D and 2.5 D-IC
Low temperature deposition of barrierless insulating film applicable to 3D and 2.5 D-IC
适用于3D和2.5D-IC的无阻挡绝缘薄膜的低温沉积
批准号：
15K05975
负责人：
Takeyama Mayumi B.
金额：
$3.16万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Relationship between TiN films with different orientations and their barrier properties
不同取向TiN薄膜与其阻隔性能的关系
不同取向TiN薄膜与其阻隔性能的关系
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
J. Jpn. Appl. Phys
影响因子：
--
作者：
[宮坂日和, 井口傑, 三島裕樹, 井口 傑，三島 裕樹, 三島 裕樹，井口 傑, 井口傑，三島裕樹, 三島裕樹，井口傑, Masaru Sato and Mayumi B. Takeyama]
通讯作者：
Masaru Sato and Mayumi B. Takeyama
Barrierproperties of TiHfN ternary alloy films against Cu diffusion in Cu/Si contact system
TiHfN三元合金薄膜对Cu/Si接触体系中Cu扩散的阻挡性能
TiHfN三元合金薄膜对Cu/Si接触体系中Cu扩散的阻挡性能
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[M. Sato, E. Aoyagi, and M. B. Takeyama]
通讯作者：
and M. B. Takeyama
Characterization of TiHfN ternary alloy films as a new barrier
TiHfN三元合金薄膜作为新型势垒的表征
TiHfN三元合金薄膜作为新型势垒的表征
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤勝, 武山真弓, Mayumi B. Takeyama and Masaru Sato]
通讯作者：
Mayumi B. Takeyama and Masaru Sato
Cuプラグに適用可能なTiHfN合金膜のバリヤ特性
适用于Cu塞的TiHfN合金薄膜的阻隔性能
适用于Cu塞的TiHfN合金薄膜的阻隔性能
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤勝, 青柳英二, 野矢厚, 武山真弓]
通讯作者：
武山真弓
窒化物薄膜の微細構造制御とラジカルを用いた低温での成膜方法
氮化物薄膜的微观结构控制和自由基低温成膜
氮化物薄膜的微观结构控制和自由基低温成膜
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[武山真弓, 佐藤 勝, 野矢 厚]
通讯作者：
野矢 厚
共 28 条
Orientation control applicable Cu interconnect on the cutting edge of 3D devices and 3D-LSI
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批准号：18K04223
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.83万
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财政年份：2018
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负责人：Takeyama Mayumi B.
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依托单位：
海外基金