In-situ observation technique of Schottky barriers around interface between metallic electrode and semiconductor

金属电极与半导体界面肖特基势垒原位观测技术

基本信息

  • 批准号:
    17K06782
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Formation of Nanodomains in a BaTiO3 Film Induced by Anisotropic Strain from an Orthorhombic GdScO3 Substrate
正交晶系 GdScO3 基底各向异性应变诱导 BaTiO3 薄膜中纳米域的形成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Kobayashi;K. Inoue;T. Kato;Y. Ikuhara;T. Yamamoto
  • 通讯作者:
    T. Yamamoto
FIB-SEM複合機による無機材料の解析例
使用FIB-SEM复合机分析无机材料的实例
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Kojima;T. Baba;C. Yukita;K. Inamoto;M. Ueda;K. Yamaki;and N. Uekawa;西野洋一;加藤丈晴
  • 通讯作者:
    加藤丈晴
電子線トモグラフィーの非線型透過率補正にお けるノイズ問題の解決法
如何解决电子断层扫描非线性透过率校正中的噪声问题
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kenji Aramaki;Sachi Koitani;Sonja Dieterich;Natalie Preisig;Cosima Stubenrauch;照屋 海登,山﨑 順,加藤 丈晴,藤田 直弘,馬 場 則男
  • 通讯作者:
    照屋 海登,山﨑 順,加藤 丈晴,藤田 直弘,馬 場 則男
Hydroxyapatite mesocrystal formation by hydrothermal treatment of octacalcium phosphate with incorporated dicarboxylate ions
通过水热处理掺入二羧酸根离子的磷酸八钙形成羟基磷灰石介晶
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Taishi Yokoi;Tomoyo Goto;Jin Nakamura;Chikara Ohtsuki;Takeharu Kato;Seiji Takahashi
  • 通讯作者:
    Seiji Takahashi
有機修飾型リン酸八カルシウムの水熱処理によるヒドロキシアパタイトの合成
有机改性磷酸八钙水热处理合成羟基磷灰石
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横井太史;後藤知代;加藤丈晴;高橋誠治
  • 通讯作者:
    高橋誠治
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

KATO Takeharu其他文献

KATO Takeharu的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('KATO Takeharu', 18)}}的其他基金

In-situ analysis of potential distribution around interfaces between metals and semiconductors for the development of power devices
金属和半导体之间界面周围电势分布的原位分析,用于功率器件的开发
  • 批准号:
    26420671
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Direct observation of potential distribution around defect structures in semiconductor in the vicinity of metal/semiconductor interface
直接观察金属/半导体界面附近半导体缺陷结构周围的电势分布
  • 批准号:
    23560795
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of direct observation for potential distribution around metallic electrode/GaN interface to develop metallic electrode for GaN
开发直接观察金属电极/GaN界面周围电位分布的技术,开发GaN用金属电极
  • 批准号:
    18686051
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)

相似海外基金

金属・半導体界面による電気伝導率に独立した熱伝導率制御
热导率控制与金属-半导体界面的电导率无关
  • 批准号:
    22KJ1020
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Development of thermoelectric material utilizing electron filtering effect at metal/semiconductor interface
利用金属/半导体界面电子过滤效应开发热电材料
  • 批准号:
    15K14107
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
金属―半導体界面を応用した950nm帯1550nm帯光子生成プロセス制御の研究
应用金属-半导体界面控制950nm和1550nm波段光子产生过程的研究
  • 批准号:
    24246051
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Direct observation of potential distribution around defect structures in semiconductor in the vicinity of metal/semiconductor interface
直接观察金属/半导体界面附近半导体缺陷结构周围的电势分布
  • 批准号:
    23560795
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study of interface passivation effect on band alignment at metal/semiconductor interface
界面钝化对金属/半导体界面能带排列影响的研究
  • 批准号:
    22760244
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Metal Semiconductor Interface Growth Using Electrochemical Atomic Layer Deposition (ALD)
使用电化学原子层沉积 (ALD) 进行金属半导体界面生长
  • 批准号:
    0704142
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
バリスティック電子放射顕微鏡による金属半導体界面のエッジにおける電気的特性の測定
使用弹道电子发射显微镜测量金属-半导体界面边缘的电特性
  • 批准号:
    07555005
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
金属-半導体界面:マイクロエレクトロニクス発展への基礎研究
金属-半导体界面:微电子学发展的基础研究
  • 批准号:
    04299107
  • 财政年份:
    1992
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
Geometric and Electronic Structure and Vibrational Properties of Metal-Semiconductor Interface Systems
金属-半导体界面系统的几何和电子结构以及振动特性
  • 批准号:
    9120398
  • 财政年份:
    1992
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Continuing grant
Investigation of metal-semiconductor interface formation by scanning tunneling microscopy
通过扫描隧道显微镜研究金属-半导体界面的形成
  • 批准号:
    93274-1990
  • 财政年份:
    1992
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了