课题基金 / 基金详情

新たな高速1光子検出器の開発とフォトンカウンティングX線イメージングへの応用

新たな高速1光子検出器の開発とフォトンカウンティングX線イメージングへの応用
新型高速单光子探测器的研制及其在光子计数X射线成像中的应用
批准号:
18J14099
负责人:
小山 晃広
金额:
$0.96万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-25 至 2020-03-31
关键词:

项目摘要

项目成果

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究は、フォトンカウンティングCTへ応用を目指した、高感度光センサSilicon Photomultiplier(SiPM)の開発及びパルス計数型の高速信号処理回路の三次元集積化を目的としたものである。必要となる計数率特性がピクセルサイズの微細化とともに向上する点を踏まえ、半導体集積回路製造技術の一つであるSilicon on Insulator (SOI)プロセスの利用によってSiPMと処理回路を三次元的に集積させた新たなフォトンカウンティングCT用デバイスの開発に挑戦した。半導体プロセス・デバイスシミュレータである Technology Computer Aided Design (TCAD) を用いた検討の後、実際に 250 μm 角の SiPM を SOI プロセスで試作し、一般的なSiPMの動作性能である100000程度の増幅ゲイン、及び高速性として十分な 16 ns 程度の信号回復時間と300 ps 以下の時間分解能をもって単一光子弁別が可能であるSiPMの開発に成功した。そこでSOIプロセスの利点である高速性を活かした計数型回路を設計し、SiPM上に集積させた4.45 mm角のプロトタイプチップを試作し、短パルスレーザー光を用いた照射試験により250 μm 角のピクセルあたり 500 ns 以下の不感時間特性のもとに計数可能であることを確認した。これはフォトンカウンティングCTへの応用で要求される入射 X 線強度 3 M cps/mm^2 程度を数え落とし10 %以下で十分検出可能な高速性である。以上より本研究はSOI技術を用いたSiPMと回路の三次元集積の有用性を示すものであり、フォトンカウンティングCT のみならず様々な応用が期待される成果である。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Silicon on Insulator Silicon Photomultiplier (SOI-SiPM) Array for Use in Photon counting CT
用于光子计数 CT 的绝缘体上硅硅光电倍增管 (SOI-SiPM) 阵列
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [Tomoki Emmei, Hiroshi Fujimoto, Akihiro Koyama]
通讯作者: Akihiro Koyama
A 250-μm pitch 36-channel silicon photo multiplier array prototype using silicon on insulator technology
采用绝缘体上硅技术的 250μm 节距 36 通道硅光电倍增器阵列原型
DOI: 10.1016/j.nima.2018.07.074
发表时间: 2019
期刊: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment
影响因子: --
作者: [A. Koyama, R. Hamasaki, K. Shimazoe, H. Takahashi, T. Takeshita, I. Kurachi, T. Miyoshi, I. Nakamura, S. Kishimoto, Y. Arai]
通讯作者: Y. Arai
国内基金
海外基金
超薄SOI横向集成功率器件背偏电压自适应优化技术研究
  • 批准号:
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2025
  • 负责人:
  • 依托单位:
面向量子计算应用的SOI-FinFET器件低温机理及模型研究
  • 批准号:
    62374174
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    48.00万元
  • 批准年份:
    2023
  • 负责人:
    卜建辉
  • 依托单位:
22nm FD-SOI nMOSFET电离总剂量与热载流子协同损伤效应研究
兆级抗辐射应用的新型超薄叠层SOI材料可控制备及低温辐射效应研究