Fabrication of p-type thin film transistor by molecular precursor method
Fabrication of p-type thin film transistor by molecular precursor method
批准号:
26810130
负责人:
NAGAI HIROKI
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31
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Conductive and semi-transparent Cu thin film fabricated using molecular precursor solutions
使用分子前驱体溶液制备导电半透明铜薄膜
DOI:
10.1016/j.matlet.2014.11.056
发表时间:
2015
期刊:
Materials Letters
影响因子:
3
作者:
[H. Nagai, S. Mita, I. Takano, T. Honda and M. Sato]
通讯作者:
T. Honda and M. Sato
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yoshihisa Takahashi, Hiroki Nagai, Tatsuya Suzuki, Mitsunobu Sato]
通讯作者:
Mitsunobu Sato
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Nagai, T. Suzuki, T. Nakano, M. Sato]
通讯作者:
M. Sato
Embedding of copper into submicrometer trenches in a silicon substrate using the molecular precursor solutions with copper nano-powder
使用含有铜纳米粉末的分子前体溶液将铜嵌入硅基板的亚微米沟槽中
DOI:
10.1016/j.matlet.2016.06.123
发表时间:
2016
期刊:
Materials Letters
影响因子:
3
作者:
[Hiroki Nagai, Tatsuya Suzuki, Takayuki Nakano, Mitsunobu Sato]
通讯作者:
Mitsunobu Sato
EMBEDDING OF COPPER INTO SUBMICROMETER TRENCHES USING THE MOLECULAR PRECURSOR METHOD
使用分子前驱体方法将铜嵌入亚微米沟槽
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroki Nagai, Tatsuya Suzuki, Takayuki Nakano, Mitsunobu Sato]
通讯作者:
Mitsunobu Sato
共 24 条
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高性能抗氧化BOPP薄膜加工关键技术研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:王晓丽
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依托单位:
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2026
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依托单位:
基于稀疏天线阵列的薄膜铌酸锂光学相控阵
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批准号:JCZRMS202600414
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2026
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负责人:
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项目类别:省市级项目
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项目类别:省市级项目
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负责人:
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2026
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项目类别:省市级项目
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二维卤化物铁电钙钛矿电子态及电子输运性质研究与调控
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批准号:2026JJ50114
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喷墨打印薄膜传感器曲面共形制造及界面强度调控方法
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项目类别:省市级项目
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依托单位: