Electron-spin-resonance study on SiC-MOSFETs and their MOS interface defects related to channel-mobility degradation
Electron-spin-resonance study on SiC-MOSFETs and their MOS interface defects related to channel-mobility degradation
批准号:
25286054
负责人:
Fujinoki Takahide
金额:
$11.98万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2013
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2013-04-01 至 2016-03-31
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ESR study on Hydrogen Passivation of Intrinsic Defects in P-type and Semi-insulating 4H-SiC
P型半绝缘4H-SiC本征缺陷氢钝化的ESR研究
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Murakami, S. Tanai, T. Okuda, J. Suda, T. Kimoto, and T. Umeda]
通讯作者:
and T. Umeda
4H-SiC MOS界面窒化処理における窒素ドーピングのESR定量
4H-SiC MOS界面氮化处理中氮掺杂的ESR定量
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[梅田享英, 佐藤嘉洋, 佐久間由貴, 小杉亮治]
通讯作者:
小杉亮治
電流検出ESRによる C面4H-SiC MOSFET界面欠陥からの水素脱離の観察
使用电流检测 ESR 观察 C 面 4H-SiC MOSFET 界面缺陷的氢脱附
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[荒井亮, 梅田享英, 佐藤嘉洋, 岡本光央, 原田信介, 小杉亮治, 奥村元, 牧野高紘, 大島武]
通讯作者:
大島武
水素リッチウェット再酸化によって作製された4H-SiC(000-1)面上MOSFET
富氢湿法再氧化制备4H-SiC(000-1)表面MOSFET
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[岡本光央, 巻渕陽一, 荒岡幹, 宮里真樹, 須ケ原紀之 , 堤岳志, 大西泰彦, 木村浩, 原田信介, 福田憲司, 大月章弘, 奥村元]
通讯作者:
奥村元
4H-SiC中の空孔欠陥と水素の反応と、水素複合欠陥のESR評価
4H-SiC中空位缺陷与氢的反应及氢化合物缺陷的ESR评价
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[棚井創基, 村上功樹, 奥田貴史, 須田淳, 木本恒暢, 小杉亮治, 大島武, 梅田享英]
通讯作者:
梅田享英
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高可靠 4H-SiC MOSFET 能带调控机理与低沟道势垒
新结构研究
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批准号:2024JJ5044
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:吴丽娟
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依托单位:
4H-SiC 基光电神经突触器件及其紫外视觉感
知应用
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批准号:Q24F040030
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:刘晓
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依托单位:
基于碰撞电离各向异性的4H-SiC超结导通电阻-击穿电压理论极限
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2023
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负责人:李轩
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依托单位:
石墨烯/4H-SiC PIN探测器及其辐照性能研究
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批准号:12305207
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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负责人:王聪聪
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依托单位:
聚变多场耦合环境下的4H-SiC中子探测器性能及其退化机制研究
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批准号:12305200
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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负责人:洪兵
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依托单位:
4H-SiC同质外延缓冲层工艺对外延层质量和器件可靠性影响的研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2022
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负责人:宋华平
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依托单位:
基于4H-SiC的高效率耐辐照中子探测器研究
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批准号:--
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项目类别:面上项目
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资助金额:55万元
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批准年份:2022
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负责人:张莹
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依托单位:
4H-SiC超结静态特性与鲁棒性基础研究
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批准号:--
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项目类别:面上项目
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资助金额:52万元
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批准年份:2022
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负责人:李轩
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依托单位:
4H-SiC PIN 探测器的辐照缺陷及其对时间分辨率的影响机制研究
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批准号:--
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30万元
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批准年份:2022
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负责人:张希媛
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依托单位:
聚焦离子束制备4H-SiC功能缺陷:加工、表征与模拟
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批准号:--
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项目类别:国际(地区)合作与交流项目
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资助金额:--
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批准年份:2021
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负责人:徐宗伟
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依托单位: