Plasma-Enhanced Atomic-Layer-Deposition Anlage
Plasma-Enhanced Atomic-Layer-Deposition Anlage
批准号:
199656457
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2011
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2010-12-31 至 --
中文摘要
“Die hier beantragte等离子体增强原子层沉积(PE-ALD)的分析方法”,“Die zuk<e:1> Grundlage <e:1>”,“Die zuk<e:1> nftigen”,“forschungsariten Instituts of physics der Kondensierten materials (IPKM)”和“des Instituts of Halbleitertechnik (IHT) der Technischen Universität Braunschweig darstel-len”。本文研究了三维氧化/金属和halbleiter纳米系统。纳米系统中接触点的研究与应用:纳米系统中接触点的研究与应用:纳米系统中接触点的研究。[1][1][1][1][1][2][1][1][1][3][1][3]。在berich unserer Aktivitäten和GaN纳米oled sollen Strukturen mit funcktionsschichten versehen werden。纳米孔与纳米牵拉传感器结构的研究进展[j]; [j]。Der Einsatz einer ALD mit plasmaunterst<s:1> t-zung ermöglicht eine wesentlich breitere Auswahl von Präkursoren and reaktiontemperature也eine常规ALD。Außerdem können die Probenoberflächen原位durch Plasmabehandlung speziell präpariert werden。”
英文摘要
„Die hier beantragte Plasma-Enhanced Atomic-Layer-Deposition (PE-ALD) Anlage wird eine wichtige Grundlage für die zukünftigen Forschungsarbeiten des Instituts für Physik der Kondensierten Materie (IPKM) und des Instituts für Halbleitertechnik (IHT) der Technischen Universität Braunschweig darstel-len. Es sollen 3- dimensionale Oxid/Metall- und Halbleiter-Nanosysteme prozessiert werden. Die be-antragte PE-ALD wird benutzt werden bei der Herstellung komplexer und funktionalisierter Aggregate von Nanokontakten, wie sie innerhalb der NTH School for Contacs in Nanosystems untersucht werden. Es ist weiterhin geplant, alternative Materialien für Solarzellen auf der Basis von oxidischen und sulfidischen Verbindungen mit Zink und Kupfer zu evaluieren. Im Bereich unserer Aktivitäten an GaN NanoLEDs sollen Strukturen mit Funktionsschichten versehen werden. Im Bereich Halbleiter-Nanoporen- und Nanodraht-Sensorstrukturen soll die Grundlage für eine effiziente Passivierung und nachfolgende Biofunktionalisierung geschaffen werden. Der Einsatz einer ALD mit Plasmaunterstüt-zung ermöglicht eine wesentlich breitere Auswahl von Präkursoren und Reaktionstemperaturen als eine konventionelle ALD. Außerdem können die Probenoberflächen in-situ durch Plasmabehandlung speziell präpariert werden.“
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI:
10.1016/j.solener.2015.11.002
发表时间:
2015-12-01
期刊:
SOLAR ENERGY
影响因子:
6.7
作者:
[Abdelfatah, Mahmoud, Ledig, Johannes, Bakin, Andrey]
通讯作者:
Bakin, Andrey
DOI:
10.1016/j.solmat.2015.11.015
发表时间:
2016-02-01
期刊:
SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS
影响因子:
6.9
作者:
[Abdelfatah, Mahmoud, Ledig, Johannes, Bakin, Andrey]
通讯作者:
Bakin, Andrey
Vertical architecture for enhancement mode power transistors based on GaN nanowires
基于GaN纳米线的增强型功率晶体管的垂直架构
DOI:
10.1063/1.4952715
发表时间:
2016
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[F. Yu. D. Rümmler, J. Hartmann, L. Caccamo, T. Schimpke, M. Strassburg, A. E. Gad, A. Bakin, H.-H. Wehmann, B. Witzigmann, A. Waag]
通讯作者:
A. Waag
海外基金