Acquisition of XPS Instrumentation for a Departmental Materials Characterization Facility
为部门材料表征设施购置 XPS 仪器
基本信息
- 批准号:9977398
- 负责人:
- 金额:$ 38万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:1999
- 资助国家:美国
- 起止时间:1999-08-15 至 2001-07-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This award from the Chemistry Research Instrumentation and Facilities (CRIF) Program and the Major Research Instrumentation (MRI) Program will assist the Department of Chemistry at Colorado State University acquire XPS instrumentation for a departmental materials characterization facility. This equipment will enhance research in a number of areas including the following: (1) vapor deposition processes for synthesis and modification of electronic, novel polymeric, and nanostructured materials; (2) solid state and materials chemistry with an emphasis on zintl ion chemistry and heavy element environmental chemistry; (3) polymer and organic ultrathin films; (4) chemical vapor deposition of electronic materials; (5) materials and surface chemistry as applied to organic semiconductor interfaces, preparation of organic light emitting diodes, and dye sensitization of wide gap inorganic semiconductors; and (6) thin film chemical vapor deposition. The X-ray photoelectron (XPS) spectrometer is used for chemical analysis. It irradiates a sample with a beam of monochromatic X-rays and the energies of the resulting photoelectrons are measured and are related to specific elements.
化学研究仪器和设施(CRIF)计划和主要研究仪器(MRI)计划的这一奖项将帮助科罗拉多州立大学化学系为部门材料表征设施购买XPS仪器。这台设备将加强以下领域的研究:(1)电子、新型聚合物和纳米结构材料的合成和改性的气相沉积工艺;(2)固态和材料化学,重点是锌离子化学和重元素环境化学;(3)聚合物和有机薄膜;(4)电子材料的化学气相沉积;(5)应用于有机半导体界面的材料和表面化学、有机发光二极管的制备和宽禁带无机半导体的染料敏化;和(6)薄膜化学气相沉积。 X射线光电子(XPS)光谱仪用于化学分析。它用一束单色X射线照射样品,测量产生的光电子的能量,并将其与特定元素联系起来。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Ellen Fisher其他文献
The Hopkins Symptom Checklist. Assessing emotional distress in obstetric-gynecologic practice.
霍普金斯症状清单。
- DOI:
- 发表时间:
1976 - 期刊:
- 影响因子:1.9
- 作者:
Karl Rickels;Celso;Ronald S. Lipman;Derogatis Lr;Ellen Fisher - 通讯作者:
Ellen Fisher
Ellen Fisher的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Ellen Fisher', 18)}}的其他基金
Unraveling Plasma-Assisted Catalysis: Toward Understanding Fundamental Molecule-Surface Interactions and Energy Partitioning Synergisms
揭示等离子体辅助催化:理解基本的分子-表面相互作用和能量分配协同作用
- 批准号:
1803067 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Standard Grant
Systematic Studies of the Dynamics, Energetics, and Surface Interactions of Plasma Species during Materials Processing
材料加工过程中等离子体物质的动力学、能量学和表面相互作用的系统研究
- 批准号:
1152963 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Standard Grant
Toward Fundamental Understanding of Plasma Processing Mechanisms: In Situ Studies of the Gas-Surface Interface During Materials Deposition and Modification
对等离子体处理机制的基本理解:材料沉积和改性过程中气体-表面界面的原位研究
- 批准号:
0911248 - 财政年份:2009
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
REU Site: Materials Chemistry Research: Synthesis, Characterization, and Device Fabrication
REU 网站:材料化学研究:合成、表征和器件制造
- 批准号:
0649263 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
Toward Fundamental Understanding: Correlating the Gas-Phase, Surface, and Gas-Surface Interface in Halogenated Plasma Systems
迈向基本理解:关联卤化等离子体系统中的气相、表面和气体-表面界面
- 批准号:
0613653 - 财政年份:2006
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
Mechanistic Studies of Plasma Deposition and Etching for Integrated Circuit Materials
集成电路材料等离子沉积与刻蚀机理研究
- 批准号:
0137664 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
Acquisition of an Integrated Scanning Electron Microscope System
购置集成扫描电子显微镜系统
- 批准号:
0114093 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Standard Grant
POWRE: Resonantly Enhanced Multiphoton Ionization for Measurement of Radical-Surface Reactivities
POWRE:用于测量自由基表面反应性的共振增强多光子电离
- 批准号:
9805815 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Standard Grant
Investigation of Plasma Deposition and Etching Mechanisms for Silicon-based Materials
硅基材料的等离子体沉积和刻蚀机理研究
- 批准号:
9812332 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
Investigation of Plasma Deposition Mechanisms for Silicon Dioxide and Silicon Nitride Films
二氧化硅和氮化硅薄膜的等离子体沉积机理研究
- 批准号:
9501157 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Continuing Grant
相似国自然基金
多级吸附法构筑三元金属合金用于C02氧化丙烷脱氢及其原位XPS研究
- 批准号:
- 批准年份:2024
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
XPS并行成像高时间分辨MCP位敏阳极探测系统研制
- 批准号:
- 批准年份:2024
- 资助金额:0.0 万元
- 项目类别:省市级项目
Alpha-碳化钼催化逆水汽迁移反应机理的原位AP-XPS研究
- 批准号:
- 批准年份:2022
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
基于XPS与SIMS等先进表面分析方法对酸酐类及其复配添加剂作用机理的动态研究
- 批准号:22202082
- 批准年份:2022
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
近常压XPS原位研究钨原子团簇的组装及其碱性电催化析氢反应机制
- 批准号:22109171
- 批准年份:2021
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
近常压XPS原位研究钠-空气电池正极对放电产物分解的催化机理
- 批准号:11805255
- 批准年份:2018
- 资助金额:28.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
基于XPS和XAFS技术的掺质磷酸钛氧铷晶体的微观结构及其与性能关系的研究
- 批准号:51672160
- 批准年份:2016
- 资助金额:62.0 万元
- 项目类别:面上项目
基于原位XPS分析的微动磨损摩擦氧化机理研究
- 批准号:51575459
- 批准年份:2015
- 资助金额:65.0 万元
- 项目类别:面上项目
硬质PVC抑烟机理的XPS/MS/锥型量热仪的研究
- 批准号:59673028
- 批准年份:1996
- 资助金额:8.0 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
X-ray photoelectron spectrometer (XPS)
X射线光电子能谱仪(XPS)
- 批准号:
525733742 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Major Research Instrumentation
HarwellXPS: A National Research Facility in XPS
HarwellXPS:XPS 国家研究机构
- 批准号:
EP/Y023536/1 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Research Grant
Analysis of surfaces using Redox XPS
使用 Redox XPS 分析表面
- 批准号:
10090839 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Collaborative R&D
HarwellXPS: A National Research Facility in XPS
HarwellXPS:XPS 国家研究机构
- 批准号:
EP/Y023609/1 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Research Grant
HarwellXPS: A National Research Facility in XPS
HarwellXPS:XPS 国家研究机构
- 批准号:
EP/Y023587/1 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Research Grant
Development of practical analysis method by Bayesian estimation using XPS simulation system
使用 XPS 模拟系统开发贝叶斯估计实用分析方法
- 批准号:
23KJ0471 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Development of Solid Electrolytes Using a Combined in-Operando XPS-Theroetical Approach
使用组合的操作中 XPS 理论方法开发固体电解质
- 批准号:
2879009 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Studentship
MRI: Track 1 Acquisition of Nexsa G2 XPS Surface Analysis System
MRI:Nexsa G2 XPS 表面分析系统的 Track 1 采购
- 批准号:
2320335 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Standard Grant
Combined X-ray photoelectron and Raman spectroscopies (XPS-Raman)
X 射线光电子和拉曼光谱组合 (XPS-Raman)
- 批准号:
496241584 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 38万 - 项目类别:
Major Research Instrumentation