高品質GaAsN系超格子の成長と励起子に関する研究
高质量GaAsN超晶格的生长和激子研究
基本信息
- 批准号:19K05295
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2024-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
RF-MBE法で成長した不純物をドーピングしたGaAsNを評価することにより、以下に示す3点の研究成果を得た。(1) 昨年度に提案したフォトルミネッセンス(PL)特性を用いた電子の有効質量を評価する方法を用いて、GaAsN中の電子の有効質量の窒素組成依存性を測定した。GaAsに比べて、GaAsNにおける電子の有効質量が大きいので、GaAsN中の励起子の束縛エネルギーが高くなる。したがって、励起子吸収を利用することにより、効率の高い太陽電池が期待できる。今後は、GaAsN中の励起子と光伝導特性の関連性を評価する予定である。(2) 時間分解PL測定を行うことにより、Be不純物濃度を変化させたGaAsN中のキャリアの寿命を測定した。光励起を停止した後にはPL発光強度が減衰する。この減衰過程には、2つの時定数が存在した。長い時定数の値は、Be濃度や測定温度に依存せずに一定であったので、GaAsN中の局在準位に関連する発光であるものと考えられる。また、時間分解PLでは、S-shape特性が観測されなかったので、局在準位の濃度は限られているものと考えられる。以上のことから、Beを高濃度にドーピングしたGaAsNでは、バンド間遷移のキャリアの寿命が短くなったために、S-shape特性が消失したものと考えられる。(3) 不純物をドーピングしたGaAsNに対するX線逆格子マッピングを測定した。その結果、不純物をドーピングすることにより、GaAsNのc軸方向の揺らぎが減少することを明らかにした。その理由として、不純物と窒素原子が結合することにより、格子間に存在する窒素原子が減少したことが考えられる。
The RF-MBE method has been used to evaluate impurities in the growth of GaAsN, and the following three points are shown in the research results. (1) Comments on the characteristics and effective quality of last year's proposal for the new year's Proposal Tools (PL) The 価する method is used to measure the composition dependence of the effective mass of electrons in GaAsN. The effective mass of GaAsN is large, the effective mass of GaAsN is large, and the constraint of GaAsN medium is high.したがって, することにより, and the efficiency of solar cells is expected to be high. From now on, the evaluation of the correlation between the driver and photoconducting characteristics of GaAsN will be determined. (2) Time-decomposed PL measurement is carried out, and Be impurity concentration is changed and the life span of GaAsN is measured. When the light excitation starts and stops, the light intensity decreases. The attenuation process of この does not exist, and the 2 つの time constant does not exist. The long-term fixed number and the dependence of the measured temperature on the Be concentration are certain and the GaAsN medium is in the correct position.また, time decomposition PL では, S-shape characteristics が観measurement されなかったので, local level のconcentration はlimit られているものとtest えられる. The above high-concentration GaAsN では and バンド transfer between The life span of the ャリアの is short and the S-shape characteristics are gone. (3) Impurities are measured using GaAsN inverse lattice X-ray inverse lattice testing.その result, impurities をドーピングすることにより, GaAsN の揺らぎがreduce することを明らかにした. The reasons for the absence of impurities, the combination of impurities with atoms, the existence of atoms in the grid, and the reduction of atoms in the grid.
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
高濃度BeドープGaAsNのフォトルミネッセンス特性
重Be掺杂GaAsN的光致发光特性
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:藤本 卓雅;塚崎 貴司;椎野 直樹;藤田 実樹;牧本 俊樹
- 通讯作者:牧本 俊樹
RF-MBE法で成長したGaAsNにおけるEgのN組成依存性
通过 RF-MBE 方法生长的 GaAsN 中 Eg 对 N 成分的依赖性
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:藤森 郁男;塚崎 貴司;藤田 実樹;牧本 俊樹
- 通讯作者:牧本 俊樹
フォトルミネッセンス特性を用いたSiドープGaAsNにおける有効質量の評価
利用光致发光特性评估硅掺杂 GaAsN 的有效质量
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:南奈津;塚崎貴司;藤田実樹;牧本俊樹
- 通讯作者:牧本俊樹
X線逆格子マッピングによる不純物ドープGaAsNの評価
通过 X 射线倒数映射评估掺杂 GaAsN
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:井上洸;角田拓優;塚崎貴司;藤田実樹;牧本俊樹
- 通讯作者:牧本俊樹
{{
                item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi }} 
- 发表时间:{{ item.publish_year }} 
- 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:{{ item.authors }} 
- 通讯作者:{{ item.author }} 
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.author }} 
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.author }} 
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.author }} 
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.author }} 
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
牧本 俊樹其他文献
Efficacy of energy functionals for ab initio calculations of strained BaTiO3 examined  by GL theory
通过 GL 理论检验能量泛函对应变 BaTiO3 从头算的有效性
- DOI:
- 发表时间:2018 
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山崎 隆弘;畑 泰希;山根 悠介;関根 佳明;前田 文彦;日比野 浩樹;藤田 実樹;牧本 俊樹;Y. Watanabe;Y. Watanabe;Y. Watanabe;Y. Watanabe 
- 通讯作者:Y. Watanabe 
RF-MBE法によるエピタキシャルグラフェン上へのAlN成長
RF-MBE 法在外延石墨烯上生长 AlN
- DOI:
- 发表时间:2015 
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山崎 隆弘;畑 泰希;山根 悠介;関根 佳明;前田 文彦;日比野 浩樹;藤田 実樹;牧本 俊樹 
- 通讯作者:牧本 俊樹 
BaTiO3 Polar Surface in Ultrahigh Vacuum Calculated by Local Density Functional Theory with a Large Supercell
采用局域密度泛函理论计算大型超晶胞超高真空中 BaTiO3 极性表面
- DOI:
- 发表时间:2018 
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山崎 隆弘;畑 泰希;山根 悠介;関根 佳明;前田 文彦;日比野 浩樹;藤田 実樹;牧本 俊樹;Y. Watanabe 
- 通讯作者:Y. Watanabe 
SrTiO3 under strain and AFD revisited with multiple exchange-correlation functionals suggesting ferroelectric-paraelectric inhomogeneity
应变和 AFD 下的 SrTiO3 的多重交换相关泛函表明铁电-顺电不均匀性
- DOI:
- 发表时间:2018 
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山崎 隆弘;畑 泰希;山根 悠介;関根 佳明;前田 文彦;日比野 浩樹;藤田 実樹;牧本 俊樹;Y. Watanabe;Y. Watanabe;Y. Watanabe 
- 通讯作者:Y. Watanabe 
牧本 俊樹的其他文献
{{
              item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi }} 
- 发表时间:{{ item.publish_year }} 
- 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:{{ item.authors }} 
- 通讯作者:{{ item.author }} 
相似国自然基金
硅基InAs/GaSb超晶格红外探测材料的MBE生长与特性研究
- 批准号:62104236
- 批准年份:2021
- 资助金额:24.00 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
二维拓扑绝缘体薄膜锡烯的MBE原位生长、表征及拓扑性质的调控
- 批准号:12004099
- 批准年份:2020
- 资助金额:24.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
LaMnO3/LaXO3超晶格L-MBE生长及应力和失配诱导的磁电耦合输运性能研究
- 批准号:11904198
- 批准年份:2019
- 资助金额:26.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
硅基深紫外AlGaN量子点的MBE可控生长及超材料光学特性的研究
- 批准号:61804163
- 批准年份:2018
- 资助金额:26.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
基于自支撑衬底的GaN基共振隧穿二极管结构设计和MBE生长研究
- 批准号:61875224
- 批准年份:2018
- 资助金额:61.0 万元
- 项目类别:面上项目
基于自支撑GaN衬底的高In组分InGaN的MBE生长及其光伏器件研究
- 批准号:61574161
- 批准年份:2015
- 资助金额:65.0 万元
- 项目类别:面上项目
长链非编码RNA-uc002mbe.2介导的HDACi凋亡效应及其在肝癌中的作用
- 批准号:81372634
- 批准年份:2013
- 资助金额:85.0 万元
- 项目类别:面上项目
不同垒层厚度并掺杂的GaNAs基短周期超晶格太阳能电池与MBE生长研究
- 批准号:61274134
- 批准年份:2012
- 资助金额:86.0 万元
- 项目类别:面上项目
内嵌量子点三结(Al)GaInP/InGaAs/Ge太阳电池材料的MBE生长及器件相关问题研究
- 批准号:61176128
- 批准年份:2011
- 资助金额:62.0 万元
- 项目类别:面上项目
原子层尺度上可控的铁电薄膜L-MBE制备及其光伏效应研究
- 批准号:61076060
- 批准年份:2010
- 资助金额:38.0 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
MBE-Sputtering-system for antiferromagnetic spintronic materials
用于反铁磁自旋电子材料的 MBE 溅射系统
- 批准号:504979810 
- 财政年份:2022
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Major Research Instrumentation 
'Investigating the impact of Bismuth on the band gap engineering and morphological properties of III/V semiconductor materials grown using MBE'.
“研究铋对使用 MBE 生长的 III/V 半导体材料的带隙工程和形态特性的影响”。
- 批准号:2602258 
- 财政年份:2021
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Studentship 
MBE-grown 1550-nm III-V quantum-dot materials and devices on Si substrate for Si photonic systems
用于硅光子系统的硅衬底上 MBE 生长的 1550 nm III-V 量子点材料和器件
- 批准号:2433417 
- 财政年份:2020
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Studentship 
Integration of Sb-based III-V materials grown directly onto Silicon by MBE
通过 MBE 直接生长在硅上的 Sb 基 III-V 材料的集成
- 批准号:2586325 
- 财政年份:2020
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Studentship 
Low vibration and low temperature closed-cycle cryostat for oxide MBE and laser-ARPES
用于氧化物 MBE 和激光 ARPES 的低振动和低温闭环低温恒温器
- 批准号:RTI-2020-00634 
- 财政年份:2019
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Research Tools and Instruments 
Quantum transport phenomena of ferromagnetic two dimensional electron system by gas source MBE films
气源MBE薄膜铁磁二维电子系统的量子输运现象
- 批准号:18H01878 
- 财政年份:2018
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B) 
Molekularstrahlepitaxie-Anlage für Halbleiter-Filme (Halbleiter MBE)
半导体薄膜分子束外延系统(半导体MBE)
- 批准号:399666531 
- 财政年份:2018
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Major Research Instrumentation 
MBE-LEEM: A UK facility for the ultimate control of complex epitaxy
MBE-LEEM:英国一家用于复杂外延最终控制的设施
- 批准号:EP/P023452/1 
- 财政年份:2017
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Research Grant 
MBE growth of high quality single Quantum Dots.
高品质单量子点的 MBE 生长。
- 批准号:1907564 
- 财政年份:2016
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Studentship 
Electrochemical Capacitance Voltage Profiler for MBE-grown novel quantum optoelectronic devices
用于 MBE 生长的新型量子光电器件的电化学电容电压分析仪
- 批准号:RTI-2016-00068 
- 财政年份:2015
- 资助金额:$ 2.75万 
- 项目类别:Research Tools and Instruments 

 刷新
              刷新
            
















 {{item.name}}会员
              {{item.name}}会员
            



