鉄硫黄クラスターのカプセル化-嵩高官能基付きカリックスアレン配位子の利用

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1.目的本研究は、高電位鉄硫黄蛋白質HiPIPのモデル化を目指して、鉄硫黄クラスター全体を配位子で覆うことを企てた。そのため1)カリックスアレン誘導体チオレートを合成し、2)これを[Fe_4S^^S]^<2+>用いて鉄硫黄クラスターを覆い、その錯体の単離・精製を試みること、3)それらの電極反応性を検討すること、を計画した。2.成果1)9段のステップからなる配位子合成法を検討した。これに基づき配位子前駆体の大量合成を行い、それに成功した。2)配位子前駆体のチオールの脱保護条件を検討した。3)原料鉄硫黄クラスターとカリックス配位子との反応を高純度溶媒を用いて,高純度アルゴン下で行った。錯体とチオール配位子の取り扱いは全て触媒カラムを備えたグローブボックス中で行った。得られた化合物が確かにFe_4S_4]^<2+>クラスターを保持していることをコア抽出と分光学的性質から確認した。4)電気化学測定を行い,酸化還元反応の検討を行った。その結果,本化合物はHiPIPと同様、極生溶媒中で、[Fe_4S_4]^<3+>/[Fe_4S_4]^<2+>カップルを用いて酸化還元反応を行うこと、又、その電極反応速度が遅く(擬可逆)、クラスターが目的通りカリックスアレーンチオールで覆われていることが示唆される結果をえた。