固体壁微小空間における高電離度マイクロプラズマの生成
固体壁微小空間における高電離度マイクロプラズマの生成
批准号:
18030013
负责人:
藤山 寛
金额:
$2.75万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
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本研究は,低気圧,短ギャップ条件下でも生成できる2nd Harmonic ECRマイクロプラズマの生成と診断を目的として研究を行った.固体壁に囲まれた小さな閉空間プラズマでは,放電そのものが固体壁の影響を強く受けるのみならず,壁の状態がプラズマパラメータにフィードバックされ,電子の壁への損失が極めて強くプラズマパラメータに反映される.二次電子放出係数の高いMgO電極壁を有する閉空間マイクロプラズマでは,2ndHarmonic ECR条件で電子密度が最大,ECR条件で電子密度が最小となる.これはSUS電極の場合と定性的に同じ結果である.しかしながら,壁との相互作用が激しいECR条件でのマイクロプラズマは,電子密度の増加率が最大となるという興味ある結果が得られた.この考察を裏付けるように,電子の閉じ込めの良い2ndHarmonic ECR条件付近では,SUS電極をMgO電極に代えても電子密度がほとんど変化しなかった.閉空間マイクロプラズマの特徴として,シースのサイズがプラズマのサイズを超えることが挙げられる.したがって,シースの厚みが大きくなる条件,つまり低気圧,バイアス電圧の増加,ギャップ長の減少により,プラズマの生成よりも消滅が大きくなり放電が不可能となる.従来の自由空間プラズマでは電力増加や高気圧下によりプラズマ密度を高めているが,閉空間マイクロプラズマでは逆に損失が増大する.したがって,閉空間マイクロプラズマの生成には電子損失を減少させる本研究の2nd Harmonic ECR共鳴閉じ込めが効果的であることが証明された.その結果,電離度が10^<-3>になり,従来のPDPマイクロプラズマの電離度10^<-5>と比較して約2桁高い高電離度プラズマが得られた.以上により,本研究では,閉空間マイクロプラズマならではの"マイクロプラズマらしさ"である高電離度,低電子温度プラズマを生成させることができた。
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Inner Coating of Long Narrow Tube by Scanning 2nd Harmonic ECRMicro Plasmas
扫描二次谐波 ECR 微等离子体制备长窄管内涂层
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Pfoc. of the 6th Asia-Europe Internatiollal Symposium on Plasma Surface Engineering vol.1
影响因子:
--
作者:
[K. Yan, Y. Nitta, T. Nakatani and H. Fujiyama]
通讯作者:
T. Nakatani and H. Fujiyama
Inner Wall Coating of Narrow Tubes, by Scanning Second Harmonic ECRMicro Plasmas,
通过扫描二次谐波 ECRMicro 等离子体进行窄管内壁涂层,
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. of the 6th Asia-Europe Intermational Symposium on Plasma Surface Engineering vol.1
影响因子:
--
作者:
[Y. Nitta, K. Okamoto, T. Nakatani and H. Fujiyama]
通讯作者:
T. Nakatani and H. Fujiyama
Low-Pressure Microplasmas and Their Application to Tube Inner Coating, (2007.10)
低压微等离子体及其在管内涂层中的应用,(2007.10)
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. of International Workshop on Microplasma Tainan, Taiwan vol.1
影响因子:
--
作者:
[Fujiyama, T. Nakatani, Y. Nitta, M. Shinohara, F. Iza and J. K. Lee]
通讯作者:
F. Iza and J. K. Lee
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Proc. of 8th APCPST&SPSM19
影响因子:
--
作者:
[T.Saida, M.Sasao, M.Isobe, A.V.Krasilnikov, R.Kumazawa, T.Mutoh, T.Watari, T.Seki, K.Saito, M. Sasao, 笹尾真実子, M. Sasao,, M. Sasao, M. Sasao^1, M. Sasao, M. Sasao, M. Sasao, K. Okada, S.KITAJIMA, S. KITAJIMA, H.Fujiyama, Y.Nitta, Y.Nitta]
通讯作者:
Y.Nitta
Low-pressure Microplasmas,3^<rd>International Workshop on Microplasmas
低压微等离子体,3^<rd>微等离子体国际研讨会
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Proceedings of 3^<rd>International Workshop on Microplasmas
影响因子:
--
作者:
[H.Fujiyama, D.Kurogi, Y.Furue, H.Uchida, Y.Nitta, T.Nakatani, F.Iza, J.K.Lee]
通讯作者:
J.K.Lee
共 7 条
歯科治療用プラズマプロセスの開発
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批准号:18654103
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2006
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界中マイクロ波による低気圧マイクロプラズマの生成と診断
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批准号:16040214
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.2万
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财政年份:2004
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
基板表面磁界による軟磁性窒化鉄薄膜の配向性制御
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批准号:08650019
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1996
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁化シランプラズマ中におけるラジカル生成と微粒子輸送
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批准号:07217216
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1995
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
シランプラズマにおける陰極シース内のラジカル生成とその挙動
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批准号:06228224
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1994
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
シランプラズマにおける陰極シース内のラジカル生成とその挙動
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批准号:05237226
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1993
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界によるイオン・ラジカルの生成・輸送・成膜制御
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批准号:02214225
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.79万
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财政年份:1990
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界による反応性プラズマの制御
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批准号:01632522
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1989
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界による反応性プラズマの制御
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批准号:63632521
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.56万
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财政年份:1988
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
プラズマメーザの実験的研究
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批准号:61780012
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1986
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
大振幅ラングミュア波のソリトンコラプスに伴う電磁波放射機構の研究
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批准号:60780015
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1985
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
ローアハイブリッド共鳴加熱におけるパラメトリック不安定性の拡散に及ぼす影響
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批准号:X00210----378008
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.26万
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财政年份:1978
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
海外基金