磁界による反応性プラズマの制御

磁场控制反应等离子体

基本信息

  • 批准号:
    63632521
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1988
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1988 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

プラズマCVDやスパッタリングなどに用いられる反応性プラズマの精密制御法の開発を目的として、容量結合型交流プラズマに外部より放電電界に垂直な磁界を印加した場合の放電空間内外のプラズマ内部パラメータの変化を調べた。得られた結果と考察について以下に記す。1.グロー放電に及ぼす磁界の効果は主としてシース領域に変化をもたらす。一般的に言えば、磁界は荷電粒子の衝突効果を増大させる働きがある。これは荷電粒子のサイクロトロン運動による見かけ上の平均自由行程の減少に起因するものである。2.クロスフィールド磁界による電子及びイオンのE×Bドリフトはプラズマを放電空間外へ輸送する。結果として、陰極シースの構造が変化し放電軸に対して非対称な2次元構造をもつようになる。プラズマ内部パラメータである荷電粒子密度、プラズマ空間電位、電界、電子温度などがそれに伴って変化し、それぞれ2次元構造をもつ。3.分光器により測定されたSiHラジカル発光の空間強度分布は電子密度と電子エネルギー分布に依存する。磁界による電子の変化がラジカルの生成に直接反映するので、磁界によるラジカルの空間分布制御が可能である。ただし、水素原子の発光強度分布は磁界による影響をあまり受けないので、均質膜の作成という点で問題がある。4.変調磁界はプラズマ内部パラメータの複雑な2次元構造を時間空間的に平均化する効果があり、大面積均一成膜法として有用である。5.E×Bドリフトによる荷電粒子束の測定から電界圧の推定が可能である。また空間電位と浮遊電位の差から評価した電子温度は磁界印加によりシース端部で増加する。以上の結果から、非常に弱い磁界によってグロー放電プラズマの構造が大きく変化するので、反応性プラズマの制御が可能である。
The development of precision control method for CVD is based on the external and internal characteristics of the vertical magnetic field. The results of the investigation are as follows: 1. The effect of the magnetic field The effect of the collision between charged particles and magnetic particles in general increases. This is the cause of the decrease in the mean free path of charged particles 2. Electronic and magnetic transport in space As a result, the structure of cathode and cathode is changed, and the structure of cathode and cathode is changed. The density of charged particles, the space potential, the electric boundary, the electron temperature, the temperature, the 3. The spatial intensity distribution of SiH emission measured by spectrometer depends on the electron density and electron emission distribution. It is possible to control the spatial distribution of electrons in the magnetic field by directly reflecting the generation of electrons in the magnetic field The light intensity distribution of water atoms is affected by the magnetic field and the formation of homogeneous membranes. 4. The method of uniform film formation in large area is useful for the averaging of time and space in the complex structure of magnetic field. 5. The measurement of charged particle beam and the estimation of electric boundary voltage are possible. The difference between the space potential and the floating potential is evaluated, and the electron temperature increases at the end of the magnetic field. The above results show that the structure of the magnetic field is very weak, and the magnetic field is very weak.

项目成果

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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
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    {{ item.author }}

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    2015
  • 资助金额:
    $ 2.56万
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    14J03484
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 2.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    09J03938
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

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知道了