シランプラズマにおける陰極シース内のラジカル生成とその挙動
シランプラズマにおける陰極シース内のラジカル生成とその挙動
批准号:
06228224
负责人:
藤山 寛
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1994
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1994 至 --
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クロスフィールド磁界が印加されたSiH4(10%)/Arグロー放電プラズマ内の陰極降下部のラジカルおよび微粒子計測の結果,以下のことが明らかになった.1.放電初期にラジカル発光および電子密度が一旦増加したあと減少していく現象が観測された.この原因として,放電開始直後の高次シランの生成による両極性拡散損失の低下に基づく電子密度の上昇と,その後の微粒子成長による電子付着の増大および電極面へのアモルファスシリコン膜堆積による二次電子放出の減少に基づく電子密度の減少が考えられる.2.市販のCCDカメラを用いて,かなり大きく成長した微粒子について,放電電界に垂直な磁界の印加に伴う微粒子の空間分布変化を観測した.負に帯電した微粒子に働くクーロン力とイオン衝撃力の空間的アンバランスに起因すると思われるE×Bドリフトとは反対方向の微粒子輸送が観測された.3.成長中の微粒子の磁界応答を調べるために,ICCDカメラを用いた高感度光計測装置を製作した.高出力パルス色素レーザーによる微粒子のMie散乱光の観測を行ったところ,これまで観測できなかったAC放電においても微粒子が観測された.4.負に帯電した微粒子が存在する場合の簡単なモデルを用いた運動方程式の計算により,帯電微粒子がプラズマのE×Bドリフトと反対方向にドリフトすることがわかった.これは微粒子に帯電した負電荷により空間電荷電界が弱まることに起因している.結果として,電子のドリフトは速くなり,逆に正イオンのドリフトは遅くなる.
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Sung-Chae Yang: "Relationship between Secondary Electron Emission and Film Thickness of Hydrogenated Amorphous Silicon" Proc.of Symp.on Plasma Science and Materials. 21-27 (1993)
Sung-Chae Yang:“二次电子发射与氢化非晶硅薄膜厚度的关系”Proc.of Symp.on Plasma Science and Materials。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
藤山 寛: "先端電気化学" 電気化学協会, 398 (1994)
藤山浩:《高级电化学》电化学会,398(1994)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Hiroshi Fujiyama: "Dynamics of Silicon Particles in DC Silane Plasmas Transported by a Modulated Magnetic Field" Jpn.J,Appl.Phys.33. 4216-4220 (1994)
Hiroshi Fujiyama:“调制磁场传输的直流硅烷等离子体中硅粒子的动力学”Jpn.J,Appl.Phys.33。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Yoshinobu Matsuda: "Influence of Heavy Particle Collision on Dptical Emission in Cathode Fall of DC Argon Silane Glow Discharge" Jpn.J,Appl.Phys.33. 4357-4360 (1994)
Yoshinobu Matsuda:“重粒子碰撞对直流氩硅烷辉光放电阴极下降中的激光发射的影响”Jpn.J,Appl.Phys.33。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
固体壁微小空間における高電離度マイクロプラズマの生成
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批准号:18030013
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2006
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
歯科治療用プラズマプロセスの開発
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批准号:18654103
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2006
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界中マイクロ波による低気圧マイクロプラズマの生成と診断
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批准号:16040214
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.2万
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财政年份:2004
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
基板表面磁界による軟磁性窒化鉄薄膜の配向性制御
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批准号:08650019
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1996
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁化シランプラズマ中におけるラジカル生成と微粒子輸送
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批准号:07217216
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1995
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
シランプラズマにおける陰極シース内のラジカル生成とその挙動
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批准号:05237226
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1993
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界によるイオン・ラジカルの生成・輸送・成膜制御
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批准号:02214225
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.79万
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财政年份:1990
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界による反応性プラズマの制御
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批准号:01632522
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1989
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
磁界による反応性プラズマの制御
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批准号:63632521
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.56万
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财政年份:1988
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
プラズマメーザの実験的研究
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批准号:61780012
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1986
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
大振幅ラングミュア波のソリトンコラプスに伴う電磁波放射機構の研究
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批准号:60780015
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1985
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
ローアハイブリッド共鳴加熱におけるパラメトリック不安定性の拡散に及ぼす影響
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批准号:X00210----378008
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.26万
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财政年份:1978
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负责人:藤山 寛
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依托单位:
海外基金