イオン衝撃による有機固体材料励起の研究

离子轰击激发有机固体材料的研究

• 批准号: 60220005
• 负责人: 田川 精一
• 金额: $ 1.73万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Special Project Research
• 财政年份: 1985
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1985 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-60220005/
• 关键词: イオン衝撃; レジスト; 時間分解; 阻止能

1.はじめに今年度、機能性高分子材料として注目を集めているレジストを試料としてイオン衝撃に起因する電子的励起の研究を以下に述べる二つの方法によって行なった。2.(1)生成物分析試料としてPMMA(ポジ型レジスト)、ポリスチレン(ネガ型レジスト)をSi基板上に約0.5μmの厚さでスピンコーティングしたものを用いた。このような薄い試料を用いることにより入射エネルギーにおけるイオンの阻止能で議論できるので、大変便利である。イオン照射した試料を現像した後、残膜率を測定した。この残膜率がイオン照射の効果を表現している。縦軸に残膜率をとり、横軸に照射量をとりデータをプロットすると各入射イオンに対して特異的な曲線が得られる。このような曲線の解析から阻止能の大きなイオンで照射する程、少ないエネルギー付与で反応が進行することが明らかとなった。今後はより精密なデータを系統的にとる予定である。(2)時間分解スペクトルの測定上記の生成物分析法と併行して、これと相補的関係のある時間分解スペクトル法によっても研究を行なった。今年度は測定システムの製作及び性能試験を行った。本方法ではビームをパルス化することが不可欠であるがパルス波形を測定したところ設計値を上まわる短いパルスが得られていることが明らかとなった。また製作したシステムによりイオン照射に起因するポリスチレン中のベンゼンエキシマーの発光の時間分解スペクトルを統計よく測定することができた。今後はより精密なスペクトルを系統的にとる予定である。

1. Research on the excitation of electrons due to the impact of polymer materials and functional polymers 2. (1)Product analysis sample: PMMA(polymethyl methacrylate), polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate), polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate), polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate), polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate) This is the case with the thin sample. After irradiation, the residual film rate was measured The residual film rate is different from the effect of irradiation. The residual film ratio of the axis is equal to that of the horizontal axis. The analysis of the curve prevents the energy from being emitted in a large amount, and the energy from being emitted in a small amount. From now on, it's going to be fine. (2)The time decomposition method is used to study the relationship between time decomposition method and product analysis method. This year, the production and performance test of the system were carried out. The method is to measure the waveform of the object and to determine whether the object is to be detected. The reason for this is that the number of people in the world who have been exposed to light has increased. In the future, the precision of the system will be determined.

项目成果

第28回放射線化学討論会予稿集. (1985)

第 28 届放射化学研讨会论文集（1985 年）。

Abstracts of SPIE′s Santa Clara Symposium on Microlithogrophy. (1986)

SPIE 圣克拉拉微光刻研讨会摘要（1986 年）。

第52回日本化学会春季年会予稿集. (1986)

日本化学会第 52 届春季年会论文集（1986 年）。