膿疱性乾癬における補体制御因子の局在

脓疱型银屑病中补体调节因子的定位

• 批准号: 07770675
• 负责人: 白方 裕司
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Ehime University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07770675/
• 关键词: 膿疱性乾癬; 補体制御因子; DAF; HRF; MCP

<はじめに>膿疱性乾癬の膿疱形成には補体由来のアナフィラトキシン(C5a)が関与していると考えられる。一方、表皮角化細胞膜表面上には、膜上で自己補体の異常な活性化を阻止する因子があり、補体の活性化によって細胞が障害されないように制御されている。ヒト表皮細胞膜上には、decay accelerating factor (DAF;CD55),homologous restricting factor (HRF;CD59),membrane cofactor protein (MCP;CD46)などの補体制御因子が存在していることが明らかとなった。そこで膿疱性乾癬表皮における補体制御因子の局在を免疫組織学的に検討した。<材料と方法>膿疱性乾癬生検皮膚を4μmの厚さで薄切しアセトン/クロロフォルム溶液にて10分間固定、その後抗DNA抗体、抗HRF抗体、抗MCP抗体と室温で60分間反応させた。燐酸緩衝液にて3回洗浄後ビオチン標識抗マウスIgG抗体と30分反応させた。燐酸緩衝液にて3回洗浄後ペルオキシダーゼ標識ストレプトアビジンと室温で10分間反応させその後基質を反応させ発色後光学顕微鏡で観察した。<結果>膿疱性乾癬表皮においてDAFは主に顆粒層から有棘層の上部において発現されており、その程度は正常表皮と較べ有意な差は認められなかった。HRF,MCPは主に基底層から傍基底層中心に発現されており個体差は認めず正常に発現されていた。<考按>今回の検討では膿疱性乾癬表皮においても補体制御因子は発現されており正常表皮の発現形式と差はみられなかった。すなわち、DAFは顆粒層中心に、HRF,MCPは基底層から傍基底層に発現されており膿疱形成時においても正常に発現しているとおもわれた。これまでの研究で、培養ヒト角化細胞においても補体制御因子の発現が認められ、種々のサイトカイン刺激でも角化細胞における補体制御因子は比較的安定であることが明らかとなっているが、炎症性皮膚疾患の代表的疾患である膿疱性乾癬においても補体制御因子は安定であった。膿疱性乾癬病変部位における膿疱形成には補体は積極的には関与していないと思われた。

The origin of the blister formation of lt; dry scrofula (C5a) blister is the origin of the disease. One side, keratosis of the epidermis, the surface of the cell membrane, the body, the body, the cell, the cell. On the membrane of the epidermis, decay accelerating factor (DAF;CD55), homologous restricting factor (HRF;CD59), membrane cofactor protein (MCP;CD46) were found to be systemic factors. The department of immune histology is responsible for the development of epidermis, epidermis, epidermis. & lt; material preparation method: gt; blister dried raw oyster skin 4 μ m thick thin cut cuttings thin cut cuttings