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Balanced Full CMOS LSI for Ultra High Performance and Ultra Low PowerConsumption

Balanced Full CMOS LSI for Ultra High Performance and Ultra Low PowerConsumption
平衡的全 CMOS LSI,实现超高性能和超低功耗
批准号:
18002004
负责人:
OHMI Tadahiro
金额:
$361.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2008

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项目成果

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(1)(551)面SOI基板上にチャネルの方向をpMOSFETは<110>方向にnMOSFETは<110>方向に作製しn-MOSFETとp-MOSFETの寸法を一致させたバランスドCMOS構成、(2)Accumulation型のMOSFET、(3)Si表面の原子オーダの平坦化、(4)ラジカル反応を用いたあらゆる面方位に高品質なSiO_2/Si_3N_4の形成、(5)ソース・ドレイン電極の直列抵抗を2桁低減、これらの開発成果により超高速・超低消費電力バランスドCMOSを実現した。
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DOI: --
发表时间: 2008
期刊: Journal of Applied Physics 104
影响因子: --
作者: [Tsuneo Okubo, Junichi Okamoto, Akira Tsuchida, Takashi Aratani]
通讯作者: Takashi Aratani
Charac- terization for High-Performance CMOS Using In-Water Advanced Kelvin -Contact Device Structure
使用水中先进开尔文接触器件结构对高性能 CMOS 进行表征
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING Vol.22,No.1
影响因子: --
作者: [R. Kuroda, A. Teramoto, T. Komori, S. Sugawa, T. Ohmi]
通讯作者: T. Ohmi
Accurate negative bias temperature instability lifetime prediction based on hole injection
基于空穴注入的精确负偏压温度不稳定性寿命预测
DOI: --
发表时间: 2008
期刊: Microelectronics Reliability 48
影响因子: --
作者: [Hanada R, Leibbrandt A, Hanada T, Kitaoka S, Furuyashiki T, Fujihara H, Trichereau J, Paolino M, Qadri F, Plehm R, Klaere S, Komnenovic V, Mimata H, Yoshimatsu H, Takahashi N, von Haeseler A, Bader M, Kilic SS, Ueta Y, Pifl C, Narumiya S,Penninger JM., Akinobu Teramoto]
通讯作者: Akinobu Teramoto
Atomically Flat Gate Insulator / Silicon (100) Interface Formation Technology for High Performance LSI
用于高性能LSI的原子平栅绝缘体/硅(100)界面形成技术
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [Takahiro Fuse, Yoshiaki Ono, Akinobu Teramoto]
通讯作者: Akinobu Teramoto
57
    Study on fabrication process of 3-D structured MOS transistor having atomically flat gate insulator/Si interface
    • 批准号:
      22000010
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
    • 资助金额:
      $394.7万
    • 财政年份:
      2010
    • 负责人:
      OHMI Tadahiro
    • 依托单位:
    Ultra-High-Speed and High-Precision Integration Circuit Using Si(110) Surface Metal Substrate SOI Balanced-CMOS
    • 批准号:
      14205052
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $35.44万
    • 财政年份:
      2002
    • 负责人:
      OHMI Tadahiro
    • 依托单位:
    Plasma process technology controlling dissociation of process gas for realizing step-by-step investment semiconductor manufacturing
    • 批准号:
      12355014
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $25.86万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      OHMI Tadahiro
    • 依托单位:
    Ultra-High-Speed Real-Time Processing Circuit and Algorithm
    • 批准号:
      12044202
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $198.4万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      OHMI Tadahiro
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    空间辐射环境下沟槽型SiC MOSFET器件栅氧长期可靠性研究
    • 批准号:
      2026JJ60454
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
      桂庆忠
    • 依托单位:
    SiC MOSFET瞬态开关建模与开关振荡抑制研究
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2025
    • 负责人:
      于安宁
    • 依托单位:
    SiC MOSFET器件多时间尺度电热应力栅极主动控制研究
    高可靠 4H-SiC MOSFET 能带调控机理与低沟道势垒 新结构研究
    • 批准号:
      2024JJ5044
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2024
    • 负责人:
      吴丽娟
    • 依托单位: