Balanced Full CMOS LSI for Ultra High Performance and Ultra Low PowerConsumption
Balanced Full CMOS LSI for Ultra High Performance and Ultra Low PowerConsumption
批准号:
18002004
负责人:
OHMI Tadahiro
金额:
$361.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2008
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英文摘要
(1)(551)面SOI基板上にチャネルの方向をpMOSFETは<110>方向にnMOSFETは<110>方向に作製しn-MOSFETとp-MOSFETの寸法を一致させたバランスドCMOS構成、(2)Accumulation型のMOSFET、(3)Si表面の原子オーダの平坦化、(4)ラジカル反応を用いたあらゆる面方位に高品質なSiO_2/Si_3N_4の形成、(5)ソース・ドレイン電極の直列抵抗を2桁低減、これらの開発成果により超高速・超低消費電力バランスドCMOSを実現した。
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Angle-resolved Photoelectron Study on the Structures of Silicon Nitride Films and Si_3N_4 / Si Interfaces Formed using Nitrogen-Hydrogen Radicals
氮化硅薄膜结构和氮氢自由基形成的Si_3N_4/Si界面的角分辨光电子研究
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
Journal of Applied Physics 104
影响因子:
--
作者:
[Tsuneo Okubo, Junichi Okamoto, Akira Tsuchida, Takashi Aratani]
通讯作者:
Takashi Aratani
Charac- terization for High-Performance CMOS Using In-Water Advanced Kelvin -Contact Device Structure
使用水中先进开尔文接触器件结构对高性能 CMOS 进行表征
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING Vol.22,No.1
影响因子:
--
作者:
[R. Kuroda, A. Teramoto, T. Komori, S. Sugawa, T. Ohmi]
通讯作者:
T. Ohmi
Accurate negative bias temperature instability lifetime prediction based on hole injection
基于空穴注入的精确负偏压温度不稳定性寿命预测
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
Microelectronics Reliability 48
影响因子:
--
作者:
[Hanada R, Leibbrandt A, Hanada T, Kitaoka S, Furuyashiki T, Fujihara H, Trichereau J, Paolino M, Qadri F, Plehm R, Klaere S, Komnenovic V, Mimata H, Yoshimatsu H, Takahashi N, von Haeseler A, Bader M, Kilic SS, Ueta Y, Pifl C, Narumiya S,Penninger JM., Akinobu Teramoto]
通讯作者:
Akinobu Teramoto
Atomically Flat Gate Insulator / Silicon (100) Interface Formation Technology for High Performance LSI
用于高性能LSI的原子平栅绝缘体/硅(100)界面形成技术
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Takahiro Fuse, Yoshiaki Ono, Akinobu Teramoto]
通讯作者:
Akinobu Teramoto
Revolutional Progress of Silicon Technologies Revolutional Progress of Device Perfoemance and Manufacturing Technologies
硅技术的革命性进步 器件性能和制造技术的革命性进步
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yamamoto, D, 中ノ勇人, T. Ohmi]
通讯作者:
T. Ohmi
共 57 条
Study on fabrication process of 3-D structured MOS transistor having atomically flat gate insulator/Si interface
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批准号:22000010
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项目类别:Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
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资助金额:$394.7万
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财政年份:2010
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Ultra-High-Speed and High-Precision Integration Circuit Using Si(110) Surface Metal Substrate SOI Balanced-CMOS
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批准号:14205052
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$35.44万
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财政年份:2002
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Plasma process technology controlling dissociation of process gas for realizing step-by-step investment semiconductor manufacturing
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批准号:12355014
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$25.86万
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财政年份:2000
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Ultra-High-Speed Real-Time Processing Circuit and Algorithm
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批准号:12044202
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$198.4万
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财政年份:2000
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Development of ultra-high-speed LSI with gas-isolated-interconnects and Ta metal gate transistors on SOI substrate
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批准号:12305020
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$26.62万
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财政年份:2000
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Ultimate Integration of Intelligence on Silicon Electronic Systems
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批准号:07248101
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$12.03万
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财政年份:1999
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Mixed Integrated Systems for Real-Time Intelligent Processing
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批准号:11176101
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$18.05万
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财政年份:1999
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Metal-substrate SOI integrated circuits technologies for 10GHz clock operation
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批准号:10305022
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$22.78万
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财政年份:1998
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Scientific LSI Processing for Intelligent Electronic Systems
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批准号:10044114
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B).
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资助金额:$2.24万
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财政年份:1998
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
HIGH PERFORMANCE DEVICES FOR GIGASCALE INTEGRATED SYSTEMS
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批准号:07044111
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项目类别:Grant-in-Aid for international Scientific Research
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资助金额:$3.39万
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财政年份:1995
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
High Speed Field Programmable LSI Using Current-Drive Silicidation
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批准号:07405014
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$24.0万
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财政年份:1995
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Research on Metal-Gate, High-Permittivity Gate-Insulator, Metal-Substrate SOI CMOS LSI
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批准号:05402039
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
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资助金额:$23.04万
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财政年份:1993
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Study on Ultra High Speed Integrated Circuit Employing Metals in the Heart of the Device Structure
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批准号:02402031
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
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资助金额:$16.83万
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财政年份:1990
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
DEVELOPMENT OF DUAL-FREQUENCY EXCITATION, LOW-KINETIC-ENERGY PARTICLE PROCESS EQUIPMENT
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批准号:63850058
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$25.15万
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财政年份:1988
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
STUDY OF INTERCONNECT STRUCTURES FOR ULTR-HIGH-SPEED LSI'S
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批准号:62420031
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
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资助金额:$13.44万
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财政年份:1987
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
Study of Singlecrystalline Pure Metal Interconnect for VLSI's
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批准号:60460117
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$4.74万
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财政年份:1985
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负责人:OHMI Tadahiro
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依托单位:
国内基金
海外基金
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空间辐射环境下沟槽型SiC MOSFET器件栅氧长期可靠性研究
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批准号:2026JJ60454
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:桂庆忠
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依托单位:
SiC MOSFET瞬态开关建模与开关振荡抑制研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2025
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负责人:于安宁
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依托单位:
SiC MOSFET器件多时间尺度电热应力栅极主动控制研究
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批准号:JCZRQT202500104
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2025
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负责人:
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依托单位:
高可靠 4H-SiC MOSFET 能带调控机理与低沟道势垒
新结构研究
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批准号:2024JJ5044
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:吴丽娟
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依托单位:
车规级碳化硅MOSFET阈值漂移规律及其抑制方法研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:蒋华平
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依托单位:
舰船电源应用背景下的 SiC MOSFET/SiIGBT
拓扑混合模块辐射干扰预测研究
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批准号:TGS24E070005
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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负责人:彭子舜
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依托单位:
极端温度环境下MOSFET器件模型和可靠性研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:15.0万元
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批准年份:2024
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负责人:杜江锋
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依托单位:
基于SiC/GaN异质结的垂直型功率MOSFET导通及击穿机制研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2023
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负责人:刘超
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依托单位:
SiC MOSFET单粒子辐照损伤机理与加固结构研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2023
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负责人:邓小川
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依托单位:
具有集成肖特基二极管的逆导型氧化镓MOSFET机理与实验研究
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批准号:62374028
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项目类别:面上项目
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资助金额:48万元
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批准年份:2023
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负责人:魏杰
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依托单位: