Creation of the modulated facet structures of III-nitride semiconductors and development of the white LEDs with wide and continuous wavelength spectra

III族氮化物半导体调制面结构的创建以及具有宽且连续波长光谱的白光LED的开发

基本信息

  • 批准号:
    21360007
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.65万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

In this study, in order to solve the fluctuation of the light emitting wave length and color rendering properties, the selective area growth on a plane GaN and the fabrication of the flat m-plane GaN are carried out aiming at the development of the white LED with continuous and wide wavelength range. By controlling growth temperature and growth pressure, the facet controlled structures can be fabricated. Also by using this technique, the flat m-plane GaN can be obtained. From these results, The development of the white LED with continuous and wide wavelength range can be realized.
本研究以开发连续且宽波长范围的白色LED为目标,针对发光波长及显色性的波动问题,进行平面GaN上的选择性区域生长及平坦m面GaN的制备。通过控制生长温度和生长压力,可以制备面控结构。同样通过使用该技术,可以获得平坦的m面GaN。这些结果为研制连续宽波长范围的白色LED奠定了基础。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Control of AlN buffer/sapphire substrate interface for AlN growth
  • DOI:
    10.1002/pssc.201001186
  • 发表时间:
    2011-07
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Reina Miyagawa;Shibo Yang;H. Miyake;K. Hiramatsu
  • 通讯作者:
    Reina Miyagawa;Shibo Yang;H. Miyake;K. Hiramatsu
Fabrication of Deep-Ultraviolet-Light-Source Tube Using Si-Doped AlGaN
  • DOI:
    10.1143/apex.4.042103
  • 发表时间:
    2011-03
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Yuki Shimahara;H. Miyake;K. Hiramatsu;F. Fukuyo;Tomoyuki Okada;Hidetsugu Takaoka;H. Yoshida
  • 通讯作者:
    Yuki Shimahara;H. Miyake;K. Hiramatsu;F. Fukuyo;Tomoyuki Okada;Hidetsugu Takaoka;H. Yoshida
電子線励起によるAlGaNを用いた深紫外光源
采用电子束激发的 AlGaN 深紫外光源
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    武富浩幸;島原佑樹;三宅秀人;平松和政;他4名
  • 通讯作者:
    他4名
Deep-Ultraviolet Emission Si-doped AlGaN Excited by Electron Beam
电子束激发深紫外发射硅掺杂AlGaN
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Miyake;Y. Shimahara;S. Ochiai;K. Hiramatsu;F. Fukuyo;T. Okada;H. Takaoka and H. Yoshida
  • 通讯作者:
    H. Takaoka and H. Yoshida
減圧HVPE法による周期溝加工AlN/サファイア上へのELO-AlN
使用低压 HVPE 方法在蓝宝石上定期加工 AlN/ELO-AlN
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    藤田浩平;三宅秀人;平松和政;乗松潤;平山秀樹
  • 通讯作者:
    平山秀樹
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

HIRAMATSU Kazumasa其他文献

HIRAMATSU Kazumasa的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('HIRAMATSU Kazumasa', 18)}}的其他基金

Study on localized surface plasmon resonance on III-nitride semiconduvtors in deep-UV region
深紫外区III族氮化物半导体局域表面等离子体共振研究
  • 批准号:
    25600090
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Nano-void epitaxy of III-nitride semiconductors and controlling light emitting properties of deep-UV light
III族氮化物半导体纳米空隙外延及深紫外光发光特性控制
  • 批准号:
    24360008
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Study on light emitting diode for lighting controlling the luminous intensity distribution by nano-photonics structures
纳米光子结构控制发光强度分布的照明用发光二极管研究
  • 批准号:
    18360008
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Controlling of UV light by using III-nitride based photonic crystals with nano-antenna
使用带有纳米天线的III族氮化物光子晶体控制紫外光
  • 批准号:
    15360008
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of New Electronic Emitters using GaN/AIN Super Lattice Structures with Negative Electron Affinity
使用具有负电子亲和势的 GaN/AlN 超级晶格结构开发新型电子发射器
  • 批准号:
    11555094
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Fabrication of Buried Metal Structure and Reduction of Dislocation Density for Nitride Semiconductors by Selective Area Growth Technique
选择性区域生长技术制备氮化物半导体埋入金属结构并降低位错密度
  • 批准号:
    11450012
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似海外基金

III-As/Sbナノワイヤヘテロ構造選択成長と立体集積回路応用に関する研究
三-As/Sb纳米线异质结构选择性生长及其在三维集成电路中的应用研究
  • 批准号:
    20J20578
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
選択成長法による反りのない高品質ヘテロエピタキシャルダイヤモンド基板の作製
选择性生长法制备高质量无翘曲异质外延金刚石基片
  • 批准号:
    17K06800
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
超高速MOSFET実現に向けたゲルマニウムスズ選択成長および局所歪技術の確立
建立用于实现超高速MOSFET的锗锡选择性生长和局部应变技术
  • 批准号:
    14J10705
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
有機金属気相選択成長法による化合物半導体ナノワイヤのナノ発光素子応用
有机金属气相选择性生长法化合物半导体纳米线在纳米发光器件中的应用
  • 批准号:
    13J01918
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
有機金属気相選択成長法による異種基板上への半導体ナノワイヤ形成と発光デバイス応用
使用有机金属气相选择性生长方法在异质基底上形成半导体纳米线及其在发光器件中的应用
  • 批准号:
    12J01477
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
有機金属気相選択成長法による化合物半導体ナノワイヤの太陽電池応用
有机金属气相选择性生长法化合物半导体纳米线太阳能电池应用
  • 批准号:
    11J01867
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
非極性窒化物半導体の選択成長と発光デバイスへの応用に関する研究
非极性氮化物半导体的选择性生长及其在发光器件中的应用研究
  • 批准号:
    10J08374
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
界面制御溶液法によるSiC多形の選択成長
界面控制溶液法选择性生长SiC多晶型
  • 批准号:
    10J08543
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
酸化亜鉛ナノワイヤのオンデマンド場所選択成長
氧化锌纳米线的按需位点选择性生长
  • 批准号:
    21656085
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
有機金属気相選択成長法による半導体ナノワイヤヘテロ構造作製とその応用に関する研究
有机金属气相选择性生长半导体纳米线异质结构及其应用研究
  • 批准号:
    07J02452
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 11.65万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了