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Study on high-efficiency polishing technology with the new techniques to control slurry distribution at the polishing area

Study on high-efficiency polishing technology with the new techniques to control slurry distribution at the polishing area
抛光区浆料分布新技术的高效抛光技术研究
批准号:
16K06030
负责人:
Ikeda Hiroshi
金额:
$3.08万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31

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電界制御技術を導入した高効率CMP 技術の研磨特性
结合电场控制技术的高效CMP技术的抛光特性
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [Youn Sung-Won, Suzuki Kenta, Hiroshima Hiroshi, 山口健, 池田 洋,久住孝幸,中村竜太,赤上陽一]
通讯作者: 池田 洋,久住孝幸,中村竜太,赤上陽一
電界スラリー制御システムを導入したSiウエハの高効率CMP技術
利用电场浆液控制系统的硅片高效CMP技术
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, and Hiroshi Hiroshima, 久住 孝幸,池田 洋,越後谷 正見,中村 竜太, 赤上 陽一, Takeshi Yamaguchi, 鈴木健太,倉島優一,尹成圓,高木秀樹,廣島洋,大島清志,小林英樹, 大橋儀宗,池田 洋,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一]
通讯作者: 大橋儀宗,池田 洋,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一
電界スラリー制御技術における電界条件とSiC 基板の研磨特性との関係
电场浆料控制技术中电场条件与SiC衬底抛光特性的关系
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [尹成圓, 鈴木健太, 廣島洋, Takeshi Yamaguchi, 池田洋,泉 泰秀,久住孝幸,赤上陽一]
通讯作者: 池田洋,泉 泰秀,久住孝幸,赤上陽一
電界ラッピング技術における研磨砥粒挙動の基礎検討
电场研磨技术中磨粒行为的基础研究
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [久住孝幸, 池田洋, 中村竜太, 赤上陽一]
通讯作者: 赤上陽一
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    Development of 3D-printable restorative material with hardness comparable to human enamel
    • 批准号:
      20K21685
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
    • 资助金额:
      $4.16万
    • 财政年份:
      2020
    • 负责人:
      Ikeda Hiroshi
    • 依托单位:
    Diversification in gall-forming insects in relation to the geographic differentiation of their host plant species
    The development of a high-efficiency polishing technology using small tool under electric field
    • 批准号:
      19K04118
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.75万
    • 财政年份:
      2019
    • 负责人:
      Ikeda Hiroshi
    • 依托单位:
    Creation of metal-free organic room temperature phosphorescent material by control of crystal phase composite interaction
    • 批准号:
      18H01967
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $11.15万
    • 财政年份:
      2018
    • 负责人:
      Ikeda Hiroshi
    • 依托单位:
    海外基金