Modeling si-ge interdiffusion at si/sige interfaces

模拟 si/sige 界面处的 si-ge 相互扩散

基本信息

  • 批准号:
    249760-2002
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.6万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
  • 财政年份:
    2005
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2005-01-01 至 2006-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

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项目成果

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Fabrication and process modeling of silicon based material structures for nanoscale microelectronics and photonics
用于纳米级微电子学和光子学的硅基材料结构的制造和工艺建模
  • 批准号:
    249760-2011
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 1.6万
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    Discovery Grants Program - Individual
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
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  • 批准号:
    249760-2006
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
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  • 批准号:
    249760-2006
  • 财政年份:
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    249760-2006
  • 财政年份:
    2006
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  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.6万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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