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振動分光法によるレ-ザ-・デポジション素過程の解明

振動分光法によるレ-ザ-・デポジション素過程の解明
使用振动光谱阐明激光沉积的基本过程
批准号:
02232212
负责人:
岩澤 康裕
金额:
$0.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --

项目摘要

项目成果

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半導体表面上への金属膜成長の初期過程の解明を目的として、以下の研究を行なった.1.偏光全反射蛍光EXAFSー予備実験およびその場測定装置の開発.Si表面上へのCu(DPM)_2のCVD成長を行ない、高エネルギ-物理学研究所放射光実験施設において、偏光全反射蛍光EXAFSの測定をおこなった.充分なS/B比のスペクトルが得られ、偏光依存性による表面構造の解析が可能であることがわかった.この結果を受けて、界面形成過程のその場追跡が可能な偏光全反射蛍光EXAFS装置の開発を行なった.これは、CVD成長時の気相成分の質量分析と、成長表面の偏光全反射蛍光EXAFS測定が可能な装置である.2.表面反応追跡用超高真空走査トンネル顕微鏡(STM)装置の開発.表面光化学反応容器を直結した超高真空STM装置を開発した.これは、比較的高圧条件で成長中の表面を直ちに超高真空槽に移送してSTM観察を可能とするものである.成長中に紫外光を照射し、その効果を検討することも重要な目的の一つである.このSTM本体は、大気中で金蒸着膜等を試料として原子レベル分解能が得られることを確認している.今後は、光励起による金属ー半導体界面形成の典型例として、Si(001)ー(2×1)表面上へのGa(CH_3)_3の光励起堆積過程についての検討を進める予定である.
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
T.Sasaki,T.Aruga,H.Kuroda,Y.Iwasawa: "Interaction between CO and NH_3 coadsorbed on Ru(001):Its effect on the ordering in mixed adlayers and the ammonia dissociation" Surf.Sci.(1991)
T.Sasaki,T.Aruga,H.Kuroda,Y.Iwasawa:“CO 和 NH_3 共吸附在 Ru(001) 上的相互作用:其对混合吸附层有序性和氨解离的影响”Surf.Sci.(1991)
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
M.Shirai,K.Asakura,Y.Iwasawa,T.Aruga: "An apparatus for in situ totalーreflection fluorescence EXAFS with synchrotron light saurce" Rev.Sci.Instrum.
M.Shirai、K.Asakura、Y.Iwasawa、T.Aruga:“具有同步加速器光源的原位全反射荧光 EXAFS 装置”Rev.Sci.Instrum。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
前例のないナノ塩基性金属酸化物/ゼオライト触媒による新規高選択的フェノール合成
Design of Novel Confined Single Site Catalysts for Low-Temperature Selective Activation of C-H Bonds
新規高効率触媒作用創出のための完全反応制御と反応原理解明に関する分子理論的研究
表面を媒体とするモレキュラーインプリンティング不斉金属錯体触媒の創成と制御
  • 批准号:
    16033217
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $2.94万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    岩澤 康裕
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
超宽禁带半导体金刚石CVD制备与掺杂技术研发
CVD 金刚石薄膜在原子气室中的抗弛豫原理 与方法研究
  • 批准号:
    Q24F040034
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    于会尧
  • 依托单位:
“缓释控源”CVD精准合成转角二维范德华异质结及其神经突触器件研究
  • 批准号:
    62404060
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    刘明强
  • 依托单位:
(xZrC-yHfC-zSiC)/SiC多层交替涂层的多相共沉积机理及其一步CVD法制备研究
  • 批准号:
    52302071
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    30.00万元
  • 批准年份:
    2023
  • 负责人:
    李博
  • 依托单位: