AFMリソグラフィによる集積型超微小電極の作製とその分子修飾

AFM光刻技术制备集成超微电极及其分子修饰

• 批准号: 11118234
• 负责人: 杉村 博之
• 金额: $ 1.02万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1999 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11118234/
• 关键词: 有機薄膜; 自己組織化単分子膜; 有機シラン; 無電解めっき; 微細加工; リソグラフィ; レジスト; 原子間力顕微鏡

本年度は下記の2つの研究項目について研究を行った。(1)選択無電解めっきによる金属微細構造の作製炭素数18個のアルキル基からなる単分子膜(octadecylsilyl,ODS,膜厚約2nm)をレジストに用いる単分子膜リソグラフィ技術による電極表面の微細構造化表面修飾について研究を行い、ODS膜上へ描画したパターンを、金属の微細構造へと転写するプロセスを開発した。本プロセスは、昨年度の研究によって開発されたプロセスを発展させたプロセスで、昨年度の研究では金の選択無電解めっきしかできなかったが、パラジウム触媒のマイクロパターンによって、金以外の金属マイクロパターンを無電解めっきによって作製することが可能になった。実際にニッケルの選択堆積を行った。(2)金微細構造電極の分子修飾単分子膜リソグラフィ〜選択無電解メッキによって作製した金微細構造を選択的に表面修飾する実験を行った。硫黄化合物有機分子を金表面だけに吸着させ、金表面に自己組織化単分子膜を形成できることを実証した。(3)半導体ナノ電極の作製ODS膜をレジストに、AFMリソグラフィ技術によってシリコンのナノ構造を作製した。SOI基板を微細加工することによって、絶縁体基板上に孤立したシリコンナノ構造を作製することに成功した。以上の研究結果により、単分子膜リソグラフィによってマイクロからナノメートルスケールの微細構造をもった電極を作製することができるようになった。

For the current year, the following に is recorded as <s:1> 2 research projects に に て て て research を lines った. (1) no electrolytic め sentaku っ き に よ の る metal micro structure for making carbon number 18 の ア ル キ ル base か ら な る 単 molecular membrane (octadecylsilyl, ODS, film thickness is about 2 nm) を レ ジ ス ト に with い る 単 molecular membrane リ ソ グ ラ フ ィ technology に よ る の imperceptible structured surface modified electrode surface に つ い を い, OD て research On the S membrane, へ is depicted as たパタ を を を を を を を, and the microstructure of the metal rod へと転 is written as するプロセスを development た た. This プ ロ セ ス は, yesterday's annual の に よ っ て open 発 さ れ た プ ロ セ ス を 発 exhibition さ せ た プ ロ セ ス で, yesterday's annual の で は gold の sentaku no electrolytic め っ き し か で き な か っ た が, パ ラ ジ ウ ム catalyst の マ イ ク ロ パ タ ー ン に よ っ て outside の, gold metal マ イ ク ロ パ タ ー ン を no electrolytic め っ き に よ っ て cropping す る こ と が can Can になった. In the real world, にニッケ にニッケ 択 択 stack を lines った. (2) gold fine structure modification of electrode の 単 molecular membrane リ ソ グ ラ フ ィ ~ sentaku no electrolytic メ ッ キ に よ っ て cropping し た gold fine structure を sentaku に surface modification す る be 験 を line っ た. Sulfur compounds in organic molecules を gold surface だ け に sorption さ せ, gold を に yourself organized 単 molecular membrane formation on the surface of で き る こ と を card be し た. (3) semiconductor ナ ノ の electrode for ODS coating を レ ジ ス ト に, AFM リ ソ グ ラ フ ィ technology に よ っ て シ リ コ ン の ナ ノ し the tectonic を cropping た. を SOI substrate microfabrication す る こ と に よ っ て, never try substrate に isolated し た シ リ コ ン ナ ノ す the tectonic を cropping る こ と に successful し た. Above の results に よ り, 単 molecular membrane リ ソ グ ラ フ ィ に よ っ て マ イ ク ロ か ら ナ ノ メ ー ト ル ス ケ ー ル の fine-structure を も っ た electrode を cropping す る こ と が で き る よ う に な っ た.

项目成果

H. Sugimura 他: "Scanning Probe Lithography for Electrode Surface Modification"J. Electroanal. Chem.. 473(1-2). 230-234 (1999)

H. Sugimura 等人：“用于电极表面修饰的扫描探针光刻”J. Electroanal。473(1-2) (1999)。

杉村博之 他: "単分子膜リソグラフィと選択無電解めっきによる金微細構造の作製"表面技術. 51(1). 101-102 (2000)

Hiroyuki Sugimura 等人：“通过单层光刻和选择性化学镀制备金微结构”表面技术 51(1)。

H.Sugimura 他: "Multilayer resist films for current-injecting scanning probe lithography applicable to nanopatterning of insurating substrates"J. Vac. Sci. Technol. B. 17(4). 1605-1608 (1999)

H.Sugimura 等人：“适用于绝缘基板纳米图案化的多层抗蚀剂薄膜”，Vac。17(4)。