Control of Deep Ultra-violet Emission and Modulation Epitaxy of Nitride Semicondusturs.
Control of Deep Ultra-violet Emission and Modulation Epitaxy of Nitride Semicondusturs.
批准号:
24560010
负责人:
MIYAKE Hideto
金额:
$3.49万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2015-03-31
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Effects of thermal cleaning on surface of free-standing GaN substrates
热清洗对自支撑 GaN 衬底表面的影响
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Shunsuke Okada, Hideto Miyake, Kazumasa HIramatsu,]
通讯作者:
Kazumasa HIramatsu,
DOI:
10.1063/1.4807906
发表时间:
2013-06-07
期刊:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子:
3.2
作者:
[Chichibu, S. F., Miyake, H., Uedono, A.]
通讯作者:
Uedono, A.
Fabrication of AlGaN multiple quantum wells on sapphire with lattice-relaxation layer
具有晶格弛豫层的蓝宝石上 AlGaN 多量子阱的制备
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kazuhiro Nakahama, Fumitsugu Fukuyo, Hideto Miyake, Kazumasa Hiramatsu, Harumasa Yoshida, Yuji Kobayashi]
通讯作者:
Yuji Kobayashi
Effects of Si doping in high-quality AlN grown by MOVPE on trench-patterned template
MOVPE 沟槽模板生长高质量 AlN 中 Si 掺杂的影响
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[G. Nishio, S. Yang, H. Miyake and K. Hiramatsu]
通讯作者:
H. Miyake and K. Hiramatsu
Study on AlN growth conditions for hydride vapor phase epitaxy
氢化物气相外延AlN生长条件研究
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Daiki YASUI, Hideto MIYAKE, Kazumasa HIRAMATSU]
通讯作者:
Kazumasa HIRAMATSU
共 33 条
High growth-rate hydride-vapor-phase of aluminum nitride
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批准号:21560014
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.08万
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财政年份:2009
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负责人:MIYAKE Hideto
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依托单位:
Epitaxial Growth of AIGaN Using Selective Area Gmwth Technique
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批准号:18560010
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.39万
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财政年份:2006
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负责人:MIYAKE Hideto
-
依托单位:
国内基金
海外基金
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低密度、高质量GaN/AlN量子点室温光泵浦单光子源
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批准号:62305005
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30万元
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批准年份:2023
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负责人:盛博文
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依托单位:
基于GaN量子点嵌入能带工程的AlN材料n型掺杂的研究
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批准号:--
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30万元
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批准年份:2022
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负责人:吴华龙
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依托单位:
AlN/GaN分子层级超晶格的性能研究及其发光器件应用
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批准号:62174141
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项目类别:面上项目
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资助金额:57万元
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批准年份:2021
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负责人:黄凯
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依托单位:
基于光电倍增循环结构的GaN/AlN量子阱Far-UVC LED器件研究
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批准号:62174061
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项目类别:面上项目
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资助金额:60万元
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批准年份:2021
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负责人:戴江南
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依托单位:
基于AlN/GaN量子阱-微腔结构深紫外激子极化激元激光器研究
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批准号:61974174
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项目类别:面上项目
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资助金额:63.0万元
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批准年份:2019
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负责人:陈长清
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依托单位:
AlGaN/AlN/GaN HFETs中极化库仑场散射的温度依赖关系研究
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批准号:LQ19F040009
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2018
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负责人:刘艳
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依托单位:
高功率微波对AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率晶体管的作用机理研究
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批准号:61701461
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:22.5万元
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批准年份:2017
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负责人:赵景涛
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依托单位:
面向太赫兹应用的(In)AlN/GaN高频HFETs器件基础研究
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批准号:61674130
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项目类别:面上项目
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资助金额:60.0万元
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批准年份:2016
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负责人:吕元杰
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依托单位:
石墨烯上GaN、AlN的成核及生长机理研究
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批准号:61604170
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:17.0万元
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批准年份:2016
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负责人:徐俞
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依托单位:
基于垂直电场分布的AlGaN/GaN/AlN双异质结紫外探测器研究
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批准号:61504123
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:20.0万元
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批准年份:2015
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负责人:王俊
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依托单位: