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Optische Galois-Streuscheiben

Optische Galois-Streuscheiben
光学伽罗瓦扩散器
批准号:
82285874
负责人:
Professor Dr. Henning Fouckhardt
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2008
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2007-12-31 至 2011-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Galois-Streuscheiben sind Seit mehreren Jahrzehnten Aus der Akustik and Anwendungen zur Verbesserung des Klangeindrucks in Opernsälen duch Unterdrück der Spekularen Refleion bekannt.Im Fall binärer Höhendess Handelt es sich um dicht angeordnete Quader,deren QuerabMessung eine Halbe(Mitten-)Wellenlnge and Deren Höhe(für senkrechten Einfall)im Reflexion sfall eine Viertelwell enge oge Oder Null Better?(Höhe be“1-bit”Dann gleich Halbe Wellenlänge)Höhenlide-Bitmuster basieren auf Galois‘schen max-Zahlenfolgen。在我们的生活中,我们的生活不再是一件容易的事,而是一件很好的事情。这是一种很好的平版印刷技术,很好地解决了这一问题。Zum设计和Zur Optimierung der Strukturen Sollen Berechnungen duchgeführt den。索伦做了大量的实验。Um das Verfahren für potenzielle Anwendungen kostengünstig zu halten,soll auch die Nanoimplet optisches Polmer auf base eines ElectrktronenstrahlstrahlStraquisch erzeugten Glas-Masterzum einatz komman。
英文摘要
Galois-Streuscheiben sind seit mehreren Jahrzehnten aus der Akustik und Anwendungen zur Verbesserung des Klangeindrucks in Opernsälen durch Unterdrückung der spekularen Reflexion bekannt. Im Fall binärer Höhenreliefs handelt es sich um dicht angeordnete Quader, deren Querabmessung eine halbe (Mitten-) Wellenlänge und deren Höhe (für senkrechten Einfall) im Reflexionsfall eine Viertelwellenlänge oder Null beträgt. Die reflektierenden oder auch transmittierenden (Höhe bei „1-Bits“ dann gleich halbe Wellenlänge) Höhenrelief-Bitmuster basieren auf Galois’schen Maximal-Zahlenfolgen. In der Optik haben solche Strukturen bisher keine Realisierung und keine Anwendung erfahren, weil die Herstellungsgenauigkeiten kaum zu erreichen waren. Mittlerweile ist die Elektronenstrahllithographie so weit entwickelt, dass solche Strukturen machbar erscheinen. Zum Design und zur Optimierung der Strukturen sollen Berechnungen durchgeführt werden. Die Streueigenschaften sollen experimentell untersucht werden. Um das Verfahren für potenzielle Anwendungen kostengünstig zu halten, soll auch die Nanoimprintlithographie in ein optisches Polymer auf Basis eines elektronenstrahllithographisch erzeugten Glas-„Masters“ zum Einsatz kommen.
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国内基金
海外基金
线性差分微分混合方程的 Galois 群算法与符号求解
  • 批准号:
    JCZRQNB202600726
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2026
  • 负责人:
  • 依托单位:
Hopf-Galois代数及其附加结构的研究
  • 批准号:
    --
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    30万元
  • 批准年份:
    2022
  • 负责人:
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    12271199
  • 项目类别:
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    46万元
  • 批准年份:
    2022
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  • 批准号:
    12071264
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    52.0万元
  • 批准年份:
    2020
  • 负责人:
    曹永林
  • 依托单位: