単一電子トランジスタ素子による、シリコン/酸化物界面の研究

使用单电子晶体管器件研究硅/氧化物界面

基本信息

  • 批准号:
    97F00286
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.73万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    1998
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1998 至 1999
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 通讯作者:
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知道了