Study on high-speed doping mechanism of wet laser processing

湿法激光加工高速掺杂机理研究

基本信息

  • 批准号:
    25289105
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.32万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法
激光掺杂设备及激光掺杂方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
研究者情報
研究员信息
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
n- and p-type doping of 4H-SiC by wet-chemical laser processing
通过湿化学激光加工对 4H-SiC 进行 n 型和 p 型掺杂
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.645
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nishi;A. Ikeda;D. Marui;H. Ikenoue;T. Asano
  • 通讯作者:
    T. Asano
Formation of pn junction in 4H-SiC by irradiation of excimer laser in phosphoric solution
准分子激光在磷溶液中照射在4H-SiC中形成pn结
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nishi;A. Ikeda;D. Marui;H. Ikenoue;T. Asano
  • 通讯作者:
    T. Asano
九州大学 研究者情報
九州大学研究员信息
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  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • 资助金额:
    $ 11.32万
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    $ 11.32万
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知道了