不饱和烃引入硅、锡官能团新反应研究-猫眼课题宝

不饱和烃引入硅、锡官能团新反应研究

批准号：

04650753

负责人：

辻康之

金额：

$0.96万

依托单位：

Gifu University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)

财政年份：

1992

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

1992 至 --

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-04650753/

关键词：

ケイ素化スズ化ジシランジスタナン白金錯体触媒パラジウム錯体触媒 1、3ージエン

项目摘要

项目成果

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本研究では、ケイ素ーケイ素間に直接結合を有するジシラン類、またスズースズ間に直接結合を有するジスタナン類を遷移金属錯体触媒存在下1、3ージエン類と反応させた。その結果、以下に示す様な新規な知見を得た。まず、ジシランを用いる新規シリル化反応に関しては、ケイ素上のフェニル基がジシランの反応性に極めて大きな影響を与えることを初めて見出した。すなわち、従来の研究によると、炭化水素置換基のみを有するジシランの遷移金属錯体触媒存在下における反応性は極めて低いとされていた。高い反応性を発現させるためには、ケイ素上にフルオロ、クロロ、メトキシ等の電子吸引性基が必要であった。しかし、本研究では白金錯体触媒を一酸化炭素加圧下用いることにより、ケイ素上のフェニル基の存在により、高収率で1、3ージエン類の1、4ージシリル化反応が進行することを見出した。速度論を用いた検討により、πーアレン白金錯体形成が重要であると提唱した。また、ジスタナンと1、3ージエンとをパラジウム錯体触媒存在下反応させることにより新規反応であるジエンの二量化ダブルスタニル化反応が高位置かつ高立体選択的に進行し、ジエンが二量化し、そのα、w位にスタニル基が結合した新規化合物が得られることを見出した。本新規反応は供与性配位子を有しない0価錯体を用いることにより、室温という温和な条件下容易に進行した。以上、本研究では遷移金属錯体触媒存在下におけるジシラン、ジスタナンを用いる1、3ージエンの新規ケイ素化ならびにスズ化反応を見出した。これらの新反応は有用物質の合成のため極めて重要であると考えられる。

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会议论文

Y.Tsuji: "Palladium-catalysed dimerization-Double Stannation of 1.3-Dienes using Hexamethyldistannane" J.Chem.Soc.,Chem.Commun.1000-1001 (1992)

Y.Tsuji：“使用六甲基二锡烷的钯催化二聚化 - 1.3-二烯的双锡化”J.Chem.Soc.，Chem.Commun.1000-1001 (1992)

DOI： --

发表时间：

期刊：

影响因子： --

作者：

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