高配位遷移金属化合物の新規生成と関連化合物を用いる新反応の開発
新一代高度配位过渡金属化合物及利用相关化合物开发新反应
基本信息
- 批准号:10874106
- 负责人:
- 金额:$ 1.15万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
- 财政年份:1998
- 资助国家:日本
- 起止时间:1998 至 1999
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究課題で前年度に引き続き、今年度得られた成果を以下に示す。(1)サマリウム外希土類金属カルベノイドの新規生成と反応性の解明および新規1,3-脱離反応による非安定化Tailor-madeカルボニルイリドとその関連活性種の生成と反応に関する研究を行った。既知の方法で生成するカルボニルイリドは構造を安定化する置換基や官能基を有するものに限られており、これらの反応性には電荷が分離した性質が強く反応してくる。真のカルボニルイリドの性質を知るために下式に示した1,3-脱離反応によるカルボニルイリドの生成法は有力な手段となる。母体のカルボニルイリドを始め、任意の置換基を有するカルボニルイリドの生成法を明かにした。これらの反応性の全容を解明することも可能となる。金属によっては"1,3-dipolaroide"としてカルボニルイリドの反応性を制御できる可能性もあるため、用いる金属と生成するカルボニルイリドの反応性の関係についてもかなりの研究成果を得た。(2)アリルスタニル化やアリルシリル化などラジカル反応を用いる立体選択的な新規萌芽的研究を行った。(3)ビニルシランの新規酸触媒環化反応と含酸素環状化合物の高立体選択的合成反応を開発した。(4)高配位マンガンおよびクロム化合物の反応性の解明と新規高配位マンガン、クロム他反応剤の創製と合成に関する研究を行った。(a)高配位マンガン、クロム中間体(M=Mn,Cr)を得、その構造と反応性の関係を明らかにする努力を行った。(b)高反応性高配位鉄、マンガン、クロム反応剤の創製とその反応の高次制御を行った。アリルアニオン、ヒドリドイオン、ビニルアニオンなど高反応性活性種の等価体として高配位遷移金属化合物を設計合成した。(c)有機クロムアート化合物を用いる還元的メタル化反応を達成した。(d)有機クロムおよび関連アート反応剤による不斉還元、アルキル反応およびジアステレオ選択的反応を見つけた。また、中心金属(M=Mn Cr,Fe)、配位子、反応系の効果を検討した。さらに新しい還元剤の開発を目指した。
The previous year of this study was introduced, and the results of this year are shown below. (1) Foreign metals such as rare earth metals, metals It is known that the method is effective in the production of chemical stabilizers. The functional bases are sensitive, stable, stable and stable. The truth is that you don't know anything about sex. The following formula shows that you can get rid of the quarantine counter-measures. The parent system is in the first place, and there is a generation method in which there is an error in the matrix. I don't know. I don't know if it's possible. The possibility of repercussion is controlled by the possibility of reaction.It is possible to obtain the results of research by using the metal to generate the product. (2) to study the budding of new laws and regulations through the use of stereoscopic research. (3) the synthesis of acid-containing environmental compounds with high stereoselectivity is highly selective. (4) High coordination compounds have anti-coordination properties to understand the new regulations, high coordination compounds, and synthesis. (a) High coordination, high coordination (B) High reflectivity, high coordination, high coordination, The design and synthesis of metal compounds with high coordination and high reactive activity, such as high coordination metal compounds, have been designed and synthesized. (C) there is a mechanism for the formation of chemical compounds by the use of chemical compounds in the presence of organic compounds. (d) it is possible to use the information provided by the computer to obtain information about the security of the system, and to obtain the information of the selected information. Centerpiece, central metal (M=Mn Cr,Fe), matching seat, anti-centerpiece, and so on. If you want to pay a new price, you will start to pay a new price.
项目成果
期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
A.Hosomi: "Selective O-Acylation of Silyl Enol Ethers with Acid Halides Mediated by a Copper(I) Salt" Tetrahedron Lett.39・35. 6295-6298 (1998)
A.Hosomi:“铜(I)盐介导的甲硅烷基烯醇醚与酰基卤的选择性O-酰化”Tetrahedron Lett.39・35(1998)。
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- 影响因子:0
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A.Hosomi: "Generation and Reactions of Nonstabilized 1, 3-Dipolar Reagents. Unprecedented Access to the Preparation of “Tailor-made" Carbonyl Ylides" J.Synth.Org.Chem., Japan. 56・8. 681-693 (1998)
A.Hosomi:“非稳定 1, 3-偶极试剂的生成和反应。前所未有地制备“定制”羰基叶立德”J.Synth.Org.Chem.,日本 681-693。 1998)
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
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- 通讯作者:
細見 彰: "「大学院講義 有機化学」II.有機合成化学・生物有機化学" 東京化学同人, 451 (1998)
Akira Hosomi:“研究生院有机化学讲座II.合成有机化学/生物有机化学”东京化学同人,451(1998)
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- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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A.Hosomi: "Uncatalyzed Aldol Reaction Using a Dimethylsilyl Enolate and α-Dimethylsilyl Ester in N, N-Dimethylformamide" Tetrahedron Lett.39・17. 2585-2588 (1998)
A.Hosomi:“在 N,N-二甲基甲酰胺中使用二甲基甲硅烷基烯醇化物和 α-二甲基甲硅烷基酯的非催化羟醛反应”Tetrahedron Lett.39・17(1998 年)。
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A.Hosomi: "An Unprecedented Catalytic Reaction Using Gold(I)Complexes"Tetrahedron Lett.. 40・45. 7807-7810 (1999)
A.Hosomi:“使用金(I)配合物的前所未有的催化反应”Tetrahedron Lett.. 40・45 7807-7810(1999)
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