Entwurf, Optimierung, CMOS-kompatible Herstellung und Charakterisierung von abstimmbaren planaren/koplanaren DGS-Filtern

Das Ziel des hier vorgeschlagenen Projekts sind Entwurf，Optimierung，Herstellung and Messtechnische Charakterisierung von abstimmbaren HF-MEMS Strukturen，Wie Filter oder Resonatoren，MIT Hilfe der Dünschicht-MEMS-Technologie。因此，索伦在库拉蒂文和konkurrierenden Dynamischen Umgebungen entwickelt中的“有缺陷的地面结构”被删除。从现在开始，我们不再需要时间，也不需要更多的时间和时间，所以我们不能再做任何事情了。我是Rahman des vorgeschlagenen Forschungsvorhabens Sollen Methoden entwickelt and unterucht wenden，die es ermömömösn n en e-Filterstructuren herzustellen，MIT Deren Deren Hilsowohlämsdämgum Durchlassberiche Sperrberiche Forschungsrealkökön n en.在此基础上，提出了一种新的高频滤波法，并对其进行了数值模拟。平行的dazu Sollen auch Neue HF-MEMS-Schalt MIT niedriger Betätiunggsspannung，hohm HF-Leistungsvermögen and Hoher Lebensdauer entworfen，Simiert und in Dünschicht-MEMS-Technologie CMOS-kompatibel realisiert。这是一种新型的机械制造技术，它是一种新型的机械制造技术，也是一种先进的制造技术。

Das Ziel des hier vorgeschlagenen Projekts sind Entwurf, Optimierung, Herstellung und messtechnische Charakterisierung von abstimmbaren HF-MEMS Strukturen, wie Filter oder Resonatoren, mit Hilfe der Dünnschicht-MEMS-Technologie. So sollen „Defected Ground Structures“ in kooperativen und konkurrierenden dynamischen Umgebungen entwickelt werden. Derartige neue Bauelementstrukturen kompakter Geometrie sollen unter Verwendung von MEMS-Schaltern realisiert und untersucht werden, um so räumlich kleine, verlustarme Resonatoren herzustellen und in HF-Filterstrukturen anzuwenden.Im Rahmen des vorgeschlagenen Forschungsvorhabens sollen Methoden entwickelt und untersucht werden, die es ermöglichen, zuverlässige HF-Filterstrukturen herzustellen, mit deren Hilfe sowohl dämpfungsarme Durchlassbereiche als auch kontrollierbare Sperrbereiche realisiert werden können. Dabei werden verschiedene HF-Filtertheorien, wie die Kopplungstheorie und die konventionelle Mikrowellen-Netzwerksynthese, für die Simulation eingesetzt. Parallel dazu sollen auch neue HF-MEMS-Schalter mit niedriger Betätigungsspannung, hohem HF-Leistungsvermögen und hoher Lebensdauer entworfen, simuliert und in Dünnschicht-MEMS-Technologie CMOS-kompatibel realisiert werden. Die Charakteristiken von koplanaren und Mikrostreifen-Leitungen, die auf Siliziumsubstraten aufgebracht sind, sollen mittels MEMS Technologie maßgeblich verbessert werden.In diesem Zusammenhang sind die zur Herstellung der HF-Strukturen erforderlichen Dünnschicht-MEMS-Prozesse zu entwickeln und anhand der erzielten Ergebnisse zu optimieren.