Thin Film Analysis Facility For Laser and Electron Beam Deposition Techniques

用于激光和电子束沉积技术的薄膜分析设备

基本信息

  • 批准号:
    8219773
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    1983
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1983-06-15 至 1984-11-30
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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    $ 4.28万
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    Standard Grant
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    9310403
  • 财政年份:
    1993
  • 资助金额:
    $ 4.28万
  • 项目类别:
    Standard Grant
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    $ 4.28万
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  • 资助金额:
    $ 4.28万
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    1991
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    $ 4.28万
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知道了