14族元素を含む外部刺激応答性機能物質の合成と反応

含14族元素的外部刺激响应功能物质的合成及反应

• 批准号: 09238251
• 负责人: 水野 一彦
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Osaka Prefecture University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1997 至 1999
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-09238251/
• 关键词: o-キノジメタン; レーザ光; 陽極酸化; 過塩素酸リチウム; 無水マレイン酸; ポリスチレン; 表面親水化反応; フィルム表面

新しい活性種を発生させ、その化学的特性を活用することにより新しい合成反応を開発し、さらに新しい機能を備えた物質を創出し、有機合成化学の新展開を図ることを目的として、14族元素を含む化合物を合成し、その物性と反応性を検討し、以下の知見を得た。1.レーザ光分解によるo-キノジメタンの発生:o-ビス(トリメチルスタニルメチル)ベンゼンにレーザ光を照射すると、速やかにC-Sn結合の切断が起こり、o-キノジメタンが発生することを、紫外・可視吸収スペクトルならびに蛍光スペクトルによって確認した。しかし、相当するケイ素およびゲルマニウム化合物を用いた場合には、一方のC-SiまたはC-Ge結合の切断によるベンジルラジカルのみが観測され、o-キノジメタンの生成は認められなかった。2.陽極酸化によるo-キノジメタンの発生と捕捉:o-ビス(トリメチルスタニルメチル)ベンゼンのアセトニトリル溶液に過塩素酸リチウムを指示電解質、白金を電極として陽極酸化すると、o-キノジメタンの二量体に由来する化合物が得られた。この反応系に無水マレイン酸を加え、陽極酸化すると、o-キノジメタンが無水マレイン酸で捕捉された化合物が47%の収率で生成した。3.レーザ光によるポリスチレンの表面親水化反応:ポリ(4-トリメチルシリルメチルスチレン)フィルムにKrFレーザを照射すると、C-Si結合切断によって生成したラジカルの酸素酸化によってカルボン酸が生成し、フィルム表面の親水性が著しく増大した。パルスあたりのカルボン酸の生成量はレーザ強度に非線形に増大した。

New active species are developed, new functions are prepared, new developments in organic synthetic chemistry are discussed, and the following knowledge is obtained. 1. The generation of o-C-C bonds in photolysis: o-C bonds in photolysis: o-C-C bonds in photolysis: o-C bonds in photolysis: o-C-C bonds in photolysis: o-C bonds: o-C bonds in photolysis: o-C bonds: o-C In the case where the compound is used, one side of the C-Si bond is cut off from the C-Ge bond, and the other side of the o-Si bond is formed. 2. Anodic acidification of the o-phase of the production and capture: o-phase of the solution of the organic phase of the electrolyte, platinum electrode and anodic acidification of the o-phase of the two-volume of the source compound. The reaction system was anhydrous and the yield of the capture compound was 47%. 3. Hydrophilic reaction of surface: C-Si bond cleavage under irradiation, C-Si bond cleavage under irradiation, C-Si bond acidification under irradiation, C-Si bond formation under irradiation, and C-Si bond formation under irradiation. The amount of acid produced in the sample increases non-linearly.

项目成果

Gen-ichi Konishi: "A Novel Photocycloaddition of Allylic Silanes to 2,3-Dicyano-5,6-dimethylpyrazine:Formation of 2,8-Diazatricyclo[3,2,1,0^<4,8>]oct-2-ene Derivatives." Tetrahedron Lett.38・30. 5313-5314 (1997)

Gen-ichi Konishi：“烯丙基硅烷与 2,3-二氰基-5,6-二甲基吡嗪的新型光环加成反应：形成 2,8-二氮杂三环[3,2,1,0^<4,8>]oct-2 -烯衍生物。”四面体快报.38・30.5313-5314 (1997)

Nobuyuki Ichinose: "Nonlinear Laser Intensity Dependence of the Formation of Carboxylic Acid Groups at the Surface of Polymer Films : The Effect of Coupling of Radical Intermediates." langmuir. 13・10. 2603-2605 (1997)

Nobuyuki Ichinose：“聚合物薄膜表面羧酸基团形成的非线性激光强度依赖性：自由基中间体的耦合效应”13・10（1997）。

Masao Fujiwara: "Spectroscopic Studies on Photochemical Formation of o-Xylylene in Solution." J.Phys.Chem.A. 101・27. 4912-4915 (1997)

藤原正男：“溶液中邻二甲苯的光化学形成的光谱研究”，J.Phys.Chem.A. 101・27（1997）。

Toshiyuki Tamai: "Patterning of SnO_2 Thin Films by Combination of Lithographic Photoirradiation and Pyrolysis of an Organotin Polymer." Chem.Mater.9・12. 2674-2675 (1997)

Toshiyuki Tamai：“通过光刻光辐射和有机锡聚合物热解相结合的 SnO_2 薄膜图案化。”Chem.Mater.9・12 (1997)。

Ryuichi Arakawa: "On-Line Electrospray Mass Analysis of Photoallylation Reactions of Dicyanobenzenes by Allylic Silanes via Photoinduced Electron Transfer." Int.J.Mass Spectrom.Ion Processes. 160. 371-376 (1997)

Ryuichi Arakawa：“通过光诱导电子转移对烯丙基硅烷对二氰基苯进行光烯丙基化反应的在线电喷雾质量分析。”