Development of High-speed Gas Flow Debris Shielding Technology for Discharge Produced Plasma Light Source
Development of High-speed Gas Flow Debris Shielding Technology for Discharge Produced Plasma Light Source
批准号:
19560282
负责人:
WATANABE Masato
金额:
$2.91万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2008
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英文摘要
気体放電を用いたEUV光源の効果的なデブリシールド法として, 超音速ノズルおよびディフューザから構成される超音速ガス流方式を提案し, その有用性を実験的に検証することを目的として研究を実施した.真空環境下での安定した超音速流の発生法と, ディフューザによる効率的なガス回収法を検討するために, レーザ誘起蛍光法によりカーテン流の可視化計測を実施した.また, レーザトリガ型放電電極の基礎実験を実施した.
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Development of Extreme Ultraviolet Radiation Source Using Laser Triggered Vacuum Spark Discharge Plasma
激光触发真空火花放电等离子体极紫外辐射源的研制
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
DENSE Z-PINCHES Vol. 1088
影响因子:
--
作者:
[M. Watanabe, J. Yamada, Q. Zhu, E Hotta]
通讯作者:
E Hotta
レーザトリガ型EUV放電光源の開発
激光触发EUV放电光源的研制
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
平成20年電気学会全国大会講演論文集 1
影响因子:
--
作者:
[渡辺正人, 岸望, 山田淳三郎, 堀田栄喜]
通讯作者:
堀田栄喜
Experimental Study of Xenon and Tin Discharge Produced Plasma EUV Light Source
氙和锡放电产生等离子体EUV光源的实验研究
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
IEEE Conference Record, The 35th International Conference on Plasma Science
影响因子:
--
作者:
[M. Watanabe, N. Kishi, J. Yamada, O. Sakuchi, J. Fei, Q. Zhu, A. Okino, E. Hotta]
通讯作者:
E. Hotta
Characteristics of extreme ultraviolet radiation from laser triggered vacuum spark discharge plasma
激光触发真空火花放电等离子体的极紫外辐射特性
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Bulletin of the American Physical Society 52
影响因子:
--
作者:
[Masato Watanabe, Nozomu Kishi, Eiki Hotta]
通讯作者:
Eiki Hotta
Oprical Observation of Gas Jet Z-pinch Discharge Produced Extreme Ultraviolet Light Source
气体射流 Z 箍缩放电产生极紫外光源的光学观察
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. of 2007 IEEE Pulsed Power Conf.
影响因子:
--
作者:
[M. Watanabe, N. Kishi, N. Iizuka, T. Orishimo, J. Fei, A. Okino, E. Hotta]
通讯作者:
E. Hotta
共 6 条
Pulsed electron beam generation and bacterial sterilization using secondary electron emission gun
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批准号:25420245
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.24万
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财政年份:2013
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
Study on Transport phenomena at supercritical mixure interface by moelcular velocity distribution function and mean field kinetic theory
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批准号:23656122
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2011
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
Development of High Efficiency Gas Treatment System by Pulsed Electron Beam Irradiation
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批准号:17360122
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$9.02万
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财政年份:2005
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
High efficiency gas treatment using bi-directional pulse power system
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批准号:13555079
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$8.83万
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财政年份:2001
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
Crystal Orientation of Anisotropic Fe-Pt Permanent Magnet
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批准号:11450265
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1999
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
Development of Fe-Pt Permanent Magnet Alloys for Dental Parts
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批准号:07555505
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1995
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负责人:WATANABE Masato
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依托单位:
国内基金
海外基金
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石墨烯/硅超表面集成EUV探测器设计及
制备工艺研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:2025
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负责人:冯波
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依托单位:
基于模式调制滤波方法的EUV光刻系统驱动光源波前探测与调控机理研究
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批准号:62305327
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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负责人:徐志强
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依托单位:
EUV光源驱动器用高效交叉弛豫Tm:LiYF4激光晶体性能优化研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2023
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负责人:李善明
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依托单位:
自由电子激光光源下高数值孔径EUV光刻成像的快速仿真与性能优化研究
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批准号:--
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项目类别:面上项目
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资助金额:52万元
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批准年份:2022
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负责人:董立松
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依托单位:
极紫外光刻多层膜反射镜EUV辐照损伤研究
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批准号:--
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项目类别:面上项目
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资助金额:55万元
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批准年份:2022
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负责人:李文斌
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依托单位:
EUV光刻掩模缺陷检测与补偿技术的研究
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批准号:U22A2070
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项目类别:联合基金项目
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资助金额:250.00万元
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批准年份:2022
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负责人:林景全
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依托单位:
EUV光刻掩模缺陷原波长叠层衍射跨尺度检测理论与方法研究
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批准号:52130504
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项目类别:重点项目
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资助金额:300万元
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批准年份:2021
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负责人:刘世元
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依托单位:
极紫外(EUV)光刻胶材料设计与制备
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批准号:--
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项目类别:--
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资助金额:500万元
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批准年份:2020
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负责人:李嫕
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依托单位:
EUV光刻机光源靶滴喷射精密控制的基础研究
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批准号:52075475
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项目类别:面上项目
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资助金额:58.0万元
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批准年份:2020
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负责人:胡亮
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依托单位:
基于CE-3及IMAGE卫星地球等离子体层EUV探测数据的反演研究
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批准号:41904148
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:27.0万元
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批准年份:2019
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负责人:黄娅
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依托单位: